[특허]Antireflection film and exposure apparatus using the same

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	F21V-009/04 G02B-005/08 G02B-001/10 G02B-005/28
출원번호	US-0383356 (1995-02-03)
우선권정보	JP-0011749 (1994-02-03); JP-0011750 (1994-02-03); JP-0277831 (1994-11-11)
발명자 / 주소	Biro Ryuji (Kawasaki JPX) Ando Kenji (Kawasaki JPX) Suzuki Yasuyuki (Yokohama JPX)
출원인 / 주소	Canon Kabushiki Kaisha (Tokyo JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 17 인용 특허 : 0

초록 ▼

This specification discloses antireflection film and an exposure apparatus using the same. The exposure apparatus has an optical system, and antireflection film formed on the refracting surface of the optical system, the antireflection film having a high refractive index layer having Al2O3 or Ta2O5

대표청구항 ▼

An antireflection film for use for light of wavelengths 200 nm to 400 nm having six-layer structure, wherein of said six layers, first and third layers in succession from the air side are low refractive index layers having SiO2, second, fourth and sixth layers are high refractive index layers having

이 특허를 인용한 특허 (17)

Morkved,Terry L.; Aspen,Frank E., Anti-reflection optical data storage disk master.
상세보기
Minoru Otani JP; Kenji Ando JP; Yasuyuki Suzuki JP; Ryuji Biro JP; Hidehiro Kanazawa JP, Antireflection film and optical element coated with the antireflection film.
상세보기
Kanazawa, Hidehiro; Ando, Kenji; Teranishi, Koji, Antireflection film and optical element having the same.
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Kanazawa,Hidehiro; Ando,Kenji; Teranishi,Koji, Antireflection film and optical element having the same.
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Tsukamoto Seitoku,JPX, Dichroic mirror.
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Ishikura Kenji,JPX ; Hiramatsu Kiyonari,JPX ; Shirai Kazushi,JPX ; Takeda Norio,JPX, Faraday rotator with antireflection film.
상세보기
Eisenkr채mer,Frank, Inspection microscope for several wavelength ranges and reflection reducing layer for an inspection microscope for several wavelength ranges.
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Marusi, Graziano; Menta, Federico; Baiocchi, Paolo, Multilayer interference filter for photochromic lenses.
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Tadahiro Ohmi JP; Kazuyuki Harada JP; Nobuyoshi Tanaka JP, Optical article, exposure apparatus or optical system using it, and process for producing it.
상세보기
Ohmi Tadahiro,JPX ; Harada Kazuyuki,JPX ; Tanaka Nobuyoshi,JPX, Optical articles and devices with a thin film containing krypton, xenon, or radon atoms.
상세보기
Kanazawa,Hidehiro; Ando,Kenji; Teranishi,Koji, Optical element with antireflection film.
상세보기
Murata, Tsuyoshi; Ishizawa, Hitoshi, Optical element with multilayer thin film and exposure apparatus with the element.
상세보기
Ohmi, Tadahiro; Harada, Kazuyuki; Tanaka, Nobuyoshi, Process for producing optical article.
상세보기
Botma,Hako; Bruebach,Joerg; Trentelman,Mark; Joobeur,Adel, Pulse modifier, lithographic apparatus, and device manufacturing method.
상세보기
Anderson, Charles; Blieske, Ulf, Transparent substrate comprising an antireflection coating.
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Anderson, Charles; Blieske, Ulf, Transparent substrate comprising an antireflection coating.
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Shirai Takeshi,JPX, three layer anti-reflective coating for optical substrate.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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