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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0603155 (1996-02-20) |
우선권정보 | JP-0030483 (1995-02-20) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 35 인용 특허 : 1 |
Proposed is a ceramic-based electrostatic chuck with built-in heater used in high-temperature processing of a semiconductor silicon wafer, which is capable of exhibiting excellent electrostatic attracting force even at a temperature at which conventional ceramic-based electrostatic chucks cannot exh
A ceramic-based electrostatic chuck with built-in heater which comprises, as an integral body: (a) a base body of a sintered blend of boron nitride and aluminum nitride having opposite surfaces; (b) a first electroconductive layer of pyrolytic graphite formed on one of the surfaces of the base body
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