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Method for manufacture of quartz glass plates 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03B-020/00
출원번호 US-0410612 (1995-03-24)
우선권정보 DE-4418401 (1994-05-26)
발명자 / 주소
  • Christiansen Uwe (Gelnhausen DEX) Steinkohl Anton (Grundau DEX)
출원인 / 주소
  • Heraeus Quartzglas GmbH (Hanau DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 2

초록

A layer of quartz glass soot is deposited continuously on a substrate consisting of quartz glass grains with a lower degree of sintering activity than the quartz glass soot and the soot is sintered by passing it continuously through a heating zone to form a quartz glass strip which is severed to for

대표청구항

Process for the continuous production of plates of quartz glass comprising providing a substrate of quartz glass grains, depositing a layer of quartz glass soot on said substrate, said layer exhibiting a higher of sintering activity than said substrate, passing said layer continuously through a heat

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Bachman David L. (Lindley NY) Lewis ; Jr. William C. (Big Flats NY) Schultz Peter C. (Painted Post NY) Voorhees Francis W. (Painted Post NY), Method of making fused silica-containing material.
  2. Kreutzer Karl (Gelnhausen DEX) Simmat Fritz (Gelnhausen DEX), Method of manufacturing stria-free, bubble-free and homogeneous quartz-glass plates.

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Shin Dong-wook,KRX ; Jung Sun-tae,KRX, Apparatus for manufacturing silica film.
  2. Boaz Premakaran T., Block assembly for a gas-type lehr.
  3. Hawtof, Daniel Warren; Noll, Brenton Allen; Vemury, Srinivas, Electrostatic method and apparatus to form low-particulate defect thin glass sheets.
  4. Pandelisev, Kiril A., Hot substrate deposition of fused silica.
  5. Bankaitis, Jonas; Bhagavatula, Venkata Adiseshaiah; Hawtof, Daniel Warren; Li, Xinghua; Merz, Gary Edward; Stone, III, John, Laser sintering system and method for forming high purity, low roughness silica glass.
  6. Butler, Douglas Llewellyn; Dejneka, Matthew John; Hawtof, Daniel Warren; Powers, Dale Robert; Tandon, Pushkar, Layered glass structures.
  7. Hawtof, Daniel Warren; Mozdy, Eric John, Locally-sintered porous soot parts and methods of forming.
  8. McDonald,Thomas E.; Wu,Fengqing, Manufacture of high purity glass tubes.
  9. Kojima Gen,JPX ; Koyama Tsutomu,JPX ; Takada Akira,JPX ; Unoki Masao,JPX ; Matsumoto Kiyoshi,JPX, Process for forming a glass sheet.
  10. Kojima Gen,JPX ; Koyama Tsutomu,JPX ; Takada Akira,JPX ; Unoki Masao,JPX ; Matsumoto Kiyoshi,JPX, Process for forming a glass sheet.
  11. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Yu, Charles Chunzhe, Projection lithography photomask blanks, preforms and method of making.
  12. Berkey George Edward ; Moore Lisa Anne ; Yu Charles Chunzhe, Projection lithography photomask blanks, preforms and methods of making.
  13. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Pierson, Michelle Diane, Projection lithography photomasks and method of making.
  14. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Pierson, Michelle Diane, Projection lithography photomasks and method of making.
  15. Berkey George Edward ; Moore Lisa Anne ; Pierson Michelle Diane, Projection lithography photomasks and methods of making.
  16. Hawtof, Daniel Warren; Noni, Jr., Douglas Miles, Roll-to-roll glass material attributes and fingerprint.
  17. Hawtof, Daniel Warren, Thin glass sheet with tunable coefficient of thermal expansion.
  18. Lisa A. Moore ; Charlene Smith, Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
  19. Moore Lisa A. ; Smith Charlene, Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
  20. Moore, Lisa A.; Smith, Charlene M., Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
  21. Moore, Lisa A.; Smith, Charlene M., Vacuum ultraviolet trasmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
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