[특허]Method and system for controlling a flow of vapor in an evaporative system

Method and system for controlling a flow of vapor in an evaporative system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	F02M-037/04
출원번호	US-0546626 (1995-10-23)
발명자 / 주소	Curran Patrick Joseph (Farmington Hills MI) Pace Robert Joseph (Wyandotte MI) Rychlick Edward George (Dearborn MI) Waskiewicz David Chester (Novi MI)
출원인 / 주소	Ford Global Technologies, Inc. (Dearborn MI 02)
인용정보	피인용 횟수 : 39 인용 특허 : 0

초록 ▼

A method and system for determining a level of vapor generated by an evaporative system. The evaporative system is closed to atmosphere. An initial pressure in a fluid-filled tank is sensed and, after a predetermined amount of time, a second pressure in the tank is sensed. A pressure difference is determined based on the sensed initial pressure and the sensed second pressure. The level of vapor generated by the evaporative system is determined based on the pressure difference.

대표청구항 ▼

For use with an evaporative system including a fluid filled tank and a vapor management valve in fluid communication with the tank, the vapor management valve having an operating range and a ramp rate, a method for controlling a flow of vapor in the evaporative system, the method comprising: (a) closing the evaporative system to atmosphere; (b) sensing an initial pressure in the tank and generating a corresponding signal; (c) after a predetermined amount of time, sensing a second pressure in the tank and generating a corresponding signal; (d) determining a pressure difference based on the sensed initial pressure and the sensed second pressure; (e) determining a level of vapor generated by the evaporative system based on the pressure difference; and (f) controlling the operating range and the ramp rate of the vapor management valve based on the level of vapor generated by the evaporative system so as to control the flow of vapor.

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