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Surface displacement detection and adjustment system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-021/89
출원번호 US-0499822 (1995-07-10)
발명자 / 주소
  • Allen Nicholas (Bedford MA) Broudour Abdu (West Newton MA) Broude Sergey (Newton Centre MA) Chase Eric (Carlisle MA) Johnson Carl (Tewksbury MA) Miller Pascal (North Chelmsford MA) Ormsby Jay (Salem
출원인 / 주소
  • QC Optics, Inc. (Burlington MA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 35  인용 특허 : 0

초록 ▼

A surface displacement detection system including a detector for detecting displacement of a surface in a direction normal to the surface as the surface revolves; an encoder which divides the surface into N sectors; a signal processor responsive to the detector for calculating the amount of displace

대표청구항 ▼

A surface displacement detection and adjustment system comprising: means for inspecting a surface; means for detecting displacement of the surface in a direction normal to the surface; means for dividing the surface into N sectors; means, responsive to said means for detecting, for calculating the a

이 특허를 인용한 특허 (35)

  1. Silvestrini, Thomas A., Corneal optic formed of degradation resistant polymer.
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  2. Bishop, Robert; Pinkney, Timothy, High speed autofocus system.
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  3. Silvestrini, Thomas A., In situ adjustable optical mask.
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  4. Silvestrini, Thomas A., In situ adjustable optical mask.
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  5. Christie, Bruce A.; Silvestrini, Thomas A., Mask configured to maintain nutrient transport without producing visible diffraction patterns.
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  6. Christie, Bruce A.; Silvestrini, Thomas A.; Hahnen, Kevin F., Mask configured to maintain nutrient transport without producing visible diffraction patterns.
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  7. Christie, Bruce A.; Silvestrini, Thomas A.; Hahnen, Kevin F., Masked intraocular devices.
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  8. Christie, Bruce A.; Kosmynine, Alexei N., Masked intraocular implants and lenses.
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  9. Christie, Bruce A.; Kosmynine, Alexei N., Masked intraocular implants and lenses.
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  10. Silvestrini, Thomas A.; Christie, Bruce A.; Hahnen, Kevin F., Method and apparatus for aligning a mask with the visual axis of an eye.
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  11. Petrenko, Aleksey; Wolters, Christian; Cai, Zhongping; Romanovsky, Anatoly; Whiteside, Bret, Method and apparatus for producing and measuring dynamically focussed, steered, and shaped oblique laser illumination for spinning wafer inspection system.
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  12. Christie, Bruce A.; Silvestrini, Thomas A.; Hahnen, Kevin F., Method for increasing the depth of focus of a patient.
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  13. Bishop,Robert, Method for optimizing inspection speed in low, and fluorescent light applications without sacrificing signal to noise ratio, resolution, or focus quality.
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  14. Wang, Wei; Wang, Zhiping, Microfluidic droplet generator.
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  15. Christie, Bruce; Peterson, Edward W.; van de Pol, Corina, Ocular mask.
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  16. Christie, Bruce; Peterson, Edward W.; van de Pol, Corina, Ocular mask.
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  17. Vilupuru, Abhiram S.; Christ, Marie Dvorak, Ocular mask having selective spectral transmission.
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  18. Silvestrini, Thomas A., Ophthalmic devices having a degradation resistant polymer.
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  19. Marxer,Norbert; Gross,Kenneth P.; Altendorfer,Hubert; Kren,George, Process and assembly for non-destructive surface inspections.
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  20. Reboul, Adam C.; Benz, Patrick H.; Webb, R. Kyle, Process for manufacturing an intraocular lens with an embedded mask.
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  21. Mehdi Vaez-Iravani ; Stanley Stokowski ; Guoheng Zhao, Sample inspection system.
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  22. Vaez Iravani,Mehdi; Stokowski,Stanley; Zhao,Guoheng, Sample inspection system.
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  23. Vaez Iravani,Mehdi; Stokowski,Stanley; Zhao,Guoheng, Sample inspection system.
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  24. Vaez Iravani,Mehdi; Stokowski,Stanley; Zhao,Guoheng, Sample inspection system.
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  25. Vaez-Iravani, Mehdi; Stokowski, Stanley; Zhao, Guoheng, Sample inspection system.
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  26. Vaez-Iravani, Mehdi; Stokowski, Stanley; Zhao, Guoheng, Sample inspection system.
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  27. Vaez-Iravani, Mehdi; Stokowski, Stanley; Zhao, Guoheng, Sample inspection system.
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  28. Vaez-Iravani, Mehdi; Stokowski, Stanley; Zhao, Guoheng, Sample inspection system.
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  29. Bishop, Robert; Pinkney, Timothy, Scanning operation with concurrent focus and inspection.
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  30. Rangarajan, Bharath; Singh, Bhanwar; Subramanian, Ramkumar; Templeton, Michael K., Scatterometry based measurements of a moving substrate.
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  31. Miller, David; Blanco, Ernesto, System and method for increasing the depth of focus of the human eye.
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  32. Miller, David; Blanco, Ernesto, System and method for increasing the depth of focus of the human eye.
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  33. Miller,David; Blanco,Ernesto, System and method for increasing the depth of focus of the human eye.
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  34. Miller,David; Blanco,Ernesto, System and method for increasing the depth of focus of the human eye.
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  35. Biellak,Steve; Stokowski,Stanley E.; Vaez Iravani,Mehdi, Systems and methods for a wafer inspection system using multiple angles and multiple wavelength illumination.
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