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Film forming apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/00
  • B65G-049/05
출원번호 US-0250500 (1994-05-27)
우선권정보 JP-0277795 (1992-09-21); JP-0327340 (1992-11-11); JP-0341143 (1992-11-26); JP-0341144 (1992-11-26); JP-0046003 (1993-02-09); JP-0107562 (1993-04-08)
발명자 / 주소
  • Hashimoto Hajime (Kyoto JPX) Kubota Kazuo (Kyoto JPX) Inoue Daisuke (Kyoto JPX) Nogawa Syuichi (Kyoto JPX)
출원인 / 주소
  • Nissin Electric Co., Ltd. (Kyoto JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 15

초록

A film forming apparatus includes a film forming chamber in which a film is formed on a substrate at a film forming position, a plurality of load lock chambers provided on the film forming chamber through gate valves respectively, a plurality of pivots provided in the film forming chamber correspond

대표청구항

A film forming apparatus comprising a delivering device of a substrate to be subjected to film formation, said delivering device comprising: a rotatable front shaft and a rotatable rear shaft which are provided in parallel in a horizontal plane; a front link and a rear link which are fixed to said f

이 특허에 인용된 특허 (15)

  1. Kump Wilhelm (Biel-Benken CHX) Borel Christian (Geneva CA CHX) Chen Jen (Sunnyvale CA) Veenstra Siem J. (Basel NJ CHX) Francis John (Basking Ridge NJ) Mugrage Benjamin B. (Basking Ridge NJ), Acyl derivatives of oxazolorifamycins.
  2. Walde Michael (Rodenbach DEX) Zejda Jaroslav (Rodenbach DEX), Apparatus for passing workpieces into and out of a coating chamber through locks.
  3. Anderle Friedrich (Hanau am Main DEX) Costescu Dan L. (Hainburg DEX) Kempf Stefan (Alzenau DEX) Novak Emmerich (Obertshausen DEX) Zejda Jaroslav (Rodenbach DEX), Apparatus on the carousel principle for coating substrates.
  4. Mahler Peter (Hainburg DEX), Cathode sputtering apparatus with adjacently arranged stations.
  5. Crabb Richard (Mesa AZ) Robinson McDonald (Paradise Valley AZ) Hawkins Mark R. (Mesa AZ) Goodwin Dennis L. (Tempe AZ) Ferro Armand P. (Scottsdale AZ) deBoer Wiebe B. (Eersel OR NLX) Ozias Albert E. (, Chemical vapor desposition system.
  6. Toshima Masato M. (Sunnyvale CA) Salzman Phil M. (San Jose CA) Murdoch Steven C. (Palo Alto CA) Wang Cheng (San Jose CA) Stenholm Mark A. (San Jose CA) Howard James (San Jose CA) Hall Leonard (San Jo, Dual cassette load lock.
  7. Landau Richard F. (Londonderry NH) Millikin Jr. William E. (Acton MA) Puchacz Jerzy P. (Nashua NH) Reyes Manolito Q. (Nashua NH) Schadler Walter (Triesen LIX), High vacuum processing system and method.
  8. Maher Joseph A. (South Hamilton MA) Vowles E. John (Goffstown NH) Napoli Joseph D. (Winham NH) Zafiropoulo Arthur W. (Manchester MA) Miller Mark W. (Burlington MA), Multiple-processing and contamination-free plasma etching system.
  9. Takahashi Nobuyuki (Fuchu JPX), Processing apparatus comprising a cassette member temporarily swingable to vertically hold a plurality of substrates.
  10. Quinlan Patrick M. (Webster Groves MO), Quaternized derivatives of polymerized pyridines and quinolines.
  11. Blake Julian G. (Cambridge MA) Muka Richard S. (Topsfield MA) Younger Peter R. (Newton MA), Sputtering system.
  12. Saeki Hiroaki (Yamanashi JPX), Vacuum processing apparatus.
  13. Tanaka Shigeru (Hitachi JPX) Setoyama Eiji (Hitachi JPX) Oikawa Shinzou (Hitachi JPX) Yamamura Sigeki (Katsuta JPX), Vacuum treatment apparatus and vacuum treatment method.
  14. Fuse Noboru (Yokohama JPX) Kitayama Hirofumi (Aikawa JPX) Hattori Hisashi (Tama JPX), Vertical wafer heat treatment apparatus having dual load lock chambers.
  15. Miller Kenneth C. (280 Easy St. ; #117 Mountain View CA 94043), Wafer transport device.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Stevens, Craig L.; Levy, Karl B., Architecture for high throughput semiconductor processing applications.
  2. Stevens, Craig Lyle, High throughput architecture for semiconductor processing.
  3. Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
  4. Prakash, Shiva, Processes for forming electronic devices and electronic devices formed by such processes.
  5. Terada, Shohei; Hirano, Tatsumi; Watanabe, Koichi; Watanabe, Yasuichiro; Seino, Hiromitsu, Sample transfer device and sample transferring method.
  6. Lee Ke Ling ; Mazur Mikhail ; Lee Ken ; Martinson Robert M., System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system.
  7. Ramsay, Bruce Gordon, Vacuum chamber load lock structure and article transport mechanism.
  8. Kuribayashi, Hiromitsu; Yoo, Woo Sik, Wafer processing system including a robot.
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