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Decompression container 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0628016 (1996-04-04)
우선권정보 JP-0080882 (1994-03-28)
발명자 / 주소
  • Ikeda Towl (Yamanashi-Ken JPX) Ishii Katsumi (Kanagawa-Ken JPX) Iizuka Yoji (Tokyo-to JPX)
출원인 / 주소
  • Tokyo Electron Limited (Tokyo-to JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 14

초록

There is a gap between the respective inner regions of the end face of the cylindrical side wall and the abutting portion of the top plate, which are situated inside the seal member. Even though the top plate is bent inward by atmospheric pressure when the container is decompressed to a predetermine

대표청구항

A decompression container capable of being decompressed inside, comprising: a cylindrical side wall having an end face and a groove therein; a top plate having an abutting portion abutting against the end face of the cylindrical side wall; and a seal member adapted to be fitted in the groove and pre

이 특허에 인용된 특허 (14)

  1. Arnold Manfred (Mechenkbeuren DEX) Blang Guido (Nauheim DEX) Gegenwart Rainer (Rdermark DEX) Ritter Jochen (Laubach DEX) Stoll Helmut (Sulzbach DEX), Arrangement for coating or etching substrates.
  2. Dozier Alfred R. (9075 Meadowrun Way San Diego CA 92129), Chemical vapor deposition reactor.
  3. Ikeda Towl (Yamanashi-ken JPX) Ishii Katsumi (Kanagawa-ken JPX) Iizuka Yoji (Tokyo JPX), Decompression container.
  4. Wilkes Robert D. (Sanford NC), Dynamic pressure relief seal for pressure vessels.
  5. Miyazaki Yoshihiko (Numazu JPX) Goto Taizan (Numazu JPX) Komiyama Yoshizo (Gotenba JPX) Iwata Kotei (Gotenba JPX), Epitaxial growing apparatus.
  6. Butler Charles A. (San Antonio TX) Gwin Jon (San Antonio TX), Etching tool.
  7. Zajac John (San Jose CA), Load lock valve.
  8. Cathey ; Jr. David A. (Boise ID), Method and apparatus useful in the plasma etching of semiconductor materials.
  9. Bennett Reid S. (Wappingers Falls NY) Ellingboe Albert R. (Palo Alto CA) Gifford George G. (Croton-on-Hudson NY) Haller Kurt L. (Peekskill NY) McKillop John S. (Satellite Beach FL) Selwyn Gary S. (Ho, Methods and apparatus for contamination control in plasma processing.
  10. Zajac, John P., Modular plasma reactor with local atmosphere.
  11. Blum Joseph M. (Yorktown Heights NY) Bumble Bruce (Pasadena CA) Chan Kevin K. (Staten Island NY) Conde Joao R. (Lisbon NY PTX) Cuomo Jerome J. (Lincolndale NY) Kane William F. (Florida NY), Plasma enhanced chemical vapor processing system using hollow cathode effect.
  12. Koinuma Hideomi (Tokyo) Yamazaki Shunpei (Tokyo) Hayashi Shigenori (Kanagawa) Miyanaga Akiharu (Kanagawa) Shiraishi Tadashi (Kanagawa JPX), Plasma processing method and plasma generating device.
  13. Wiltshire Arthur J. (Richmond Heights OH) Nara Harry R. (Novelty OH) LeBreton Edward T. (Mentor OH) Bliley Ward L. (Chesterland OH), Tank closure assembly.
  14. Saeki Hiroaki (Yamanashi JPX), Vacuum processing apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Rowland, Clifford M.; Schmidt, William L., Closure lip seal relief.
  2. Fink,Steven T., Cylinder-based plasma processing system.
  3. Hayashi, Daisuke; Murakami, Koichi, Gas shower structure and substrate processing apparatus.
  4. Ivanov, Igor C.; Zhang, Weiguo, Microelectronic fabrication system components and method for processing a wafer using such components.
  5. Ivanov, Igor C.; Zhang, Welguo, Microelectronic fabrication system components and method for processing a wafer using such components.
  6. Spruit, Johannes H. M.; Van Den Enden, Gijsbert Joseph; Linnartz, Johan P. M. G.; Talatra, Johan C., Record carrier, playback device and method of recording information.
  7. Nakagawa, Yusuke, Seal mechanism, seal trench, seal member, and substrate processing apparatus.
  8. Titel, Don; Wheatley, Wayne W.; Sharpe, Todd W., Sealable surface method and device.
  9. Kiriyama Kenji,JPX, Vacuum chamber and method of manufacturing the vacuum chamber.
  10. Takahashi,Nobuyuki, Vacuum chamber assembly.
  11. Katoh Susumu,JPX, Vacuum processing apparatus.
  12. Yamazaki Koichi,JPX ; Kasai Shigeru,JPX, Vacuum processing apparatus.
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