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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0786041 (1997-01-21) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 1 |
A target, target backing plate, and cover plate form a target plate assembly. The sputtering target assembly includes an integral cooling passage. A series of grooves are constructed in either the target backing plate or the target backing cooling cover plate, which are then securely bonded to one a
A method of magnetron sputtering comprising the steps of: providing a movable magnetron in an evacuable chamber on a back side of a sputtering target assembly, and placing an insulating barrier between said sputtering target assembly and said movable magnetron.
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