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Method for depositing a substance with temperature control 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0480580 (1995-06-07)
발명자 / 주소
  • Patten
  • Jr. Donald O. (Sterling MA) Simpson Matthew A. (Sudbury MA) Windischmann Henry (Northboro MA) Heuser Michael S. (Foothill Ranch CA)
출원인 / 주소
  • Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation (03) Celestech, Inc. (03)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 29

초록 ▼

A method for depositing a substance, such as diamond, on a surface of a substrate with temperature control, which comprises the steps of providing a cooling block having a surface that is cooled by heat exchange; supporting said substrate from said cooling block so that the bottom surface of said su

대표청구항 ▼

A method for depositing a substance on a surface of a substrate, comprising the steps of: providing a cooling block having a surface that is cooled by heat exchange; supporting said substrate from said cooling block so that the bottom surface of said substrate is spaced from said cooling block surfa

이 특허에 인용된 특허 (29)

  1. Wertheimer Michael R. (91 Somerville Avenue Westmount ; Quebec CAX H3Z 1J4), Apparatus and method for plasma treatment of substrates.
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  2. Sato Mitsuo (Zama JPX), Apparatus for growing vapor phase layer on semiconductor substrate.
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  3. Gasworth Steven M. (Glenville NY), Apparatus for producing diamonds by chemical vapor deposition and articles produced therefrom.
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  4. Nishitani Eisuke (Yokohama JPX) Tsuzuku (Tokyo JPX) Nakatani Mitsuo (Yokohama JPX) Maehara Masaaki (Tokyo JPX) Horiuchi Mitsuaki (Hachioji JPX) Mizukami Koichiro (Akishima JPX), Apparatus for selective deposition of metal thin film.
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  5. Harada Shigeru (Itami JPX) Obata Masanori (Itami JPX) Tanaka Eisuke (Itami JPX) Kishibe Kenji (Itami JPX), Chemical vapor deposition apparatus having cooling heads adjacent to gas dispersing heads in a single chamber.
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  6. Gasworth Steven M. (Scotia NY), Diamond crystal growth process.
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  7. Cann Gordon L. (Laguna Beach CA), Diamond deposition cell.
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  8. Roppel Thaddeus A. (Okemos MI) Asmussen Jes (Okemos MI) Reinhard Donnie K. (East Lansing MI), Dual plasma microwave apparatus and method for treating a surface.
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  9. Bhat Rajaram (Middletown NJ), Gas foil rotating substrate holder.
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  10. Asmussen Jes (Okemos MI) Root Joseph J. (East Lansing MI), Ion generating apparatus and method for the use thereof.
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  11. Cann Gordon L. (P.O. Box 279 Laguna Beach CA 92652), Magnetoplasmadynamic apparatus and process for the separation and deposition of materials.
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  12. Cann Gordon L. (P.O. Box 279 Laguna Beach CA 92652), Magnetoplasmadynamic apparatus for the separation and deposition of materials.
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  13. Remo John L. (St. James NY), Materials with diamond-like properties and method and means for manufacturing them.
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  14. Cann Gordon L. (Laguna Beach) Shephard ; Jr. Cecil B. (Laguna Beach) McKevitt Frank X. (Anaheim Hills CA), Method for plasma deposition on apertured substrates.
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  15. Cann Gordon L. (Laguna Beach CA) Shepard ; Jr. Cecil B. (Laguna Beach CA), Method for plasma jet deposition.
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  16. Vukanovic Vladimir (Rochester NY) Butler Susannah M. (Rochester NY) Fazekas George (Rochester NY) Miller John R. (Rochester NY), Method for the deposition of coatings upon substrates utilizing a high pressure, non-local thermal equilibrium arc plasm.
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  17. Asmussen Jes (Okemos MI) Reinhard Donnie K. (East Lansing MI), Method for treating a surface with a microwave or UHF plasma and improved apparatus.
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  18. Kazama Kouichi (Yamanashi-ken JPX) Komino Mitsuaki (Tokyo JPX) Ishikawa Kenji (Sagamihara JPX) Ueda Yoichi (Yokohama JPX), Method of controlling temperature of susceptor.
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  19. Asmussen Jes (Okemos MI) Reinhard Donnie K. (East Lansing MI), Microwave or UHF plasma improved apparatus.
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  20. Matsuo Seitaro (Hachioji JPX) Yoshihara Hideo (Sekimachi JPX) Yamazaki Shinichi (Chofu JPX), Plasma deposition apparatus.
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  21. Ikegaya Akihiko (Itami JPX) Fujimori Naoji (Itami JPX), Process and apparatus for the production of diamond.
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  22. Sakamoto Masakatu (Hachiohji JPX) Yaguchi Youichi (Tokyo JPX) Toshima Hiroaki (Ibaragi JPX) Kotaki Toshiroh (Tokyo JPX), Process for forming a crystalline diamond film.
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  23. Calcote Hartwell F. (Princeton NJ), Process for forming diamond coating using a silent discharge plasma jet process.
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  24. Yamamoto Minoru (Okazaki JPX) Nakamura Satoshi (Okazaki JPX) Ito Nobuei (Okazaki JPX) Hattori Tadashi (Okazaki JPX), Process for forming diamond film.
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  25. Uchida Kiyoshi (Toyota JPX) Noda Shoji (Aichi JPX) Higuchi Kazuo (Seto JPX), Process for synthesizing diamond and apparatus therefor.
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  26. Matsunaga Minobu (Kyoto JPX) Mizohata Yasuhiro (Kyoto JPX), Substrate cooling device and substrate heat-treating apparatus.
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  27. Snail Keith A. (Silver Spring MD) Thorpe Thomas P. (Alexandria VA), Substrate temperature control apparatus and technique for CVD reactors.
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  28. Snail Keith A. (Silver Spring MD) Thorpe Thomas P. (Alexandria VA), Substrate temperature control apparatus for CVD reactors.
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  29. Gruner Heiko (Beinwiel am See CHX), Vacuum plasma coating apparatus.
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이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Patten ; Jr. Donald O. ; Simpson Matthew A. ; Windischmann Henry ; Heuser Michael S. ; Quirk William A. ; Jaffe Stephen M., Apparatus and method for depositing a substance with temperature control.
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  2. Kinder Helmut,DEX, Device for producing oxidic thin films.
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  3. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S.; Thomas, Kurt, Faucet.
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  4. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S., Faucet component with coating.
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  5. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S., Faucet component with coating.
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  6. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Jonte, Patrick B.; Richmond, Douglas S., Faucet component with coating.
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  7. Brondum, Klaus, Faucet with wear-resistant valve component.
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  8. Carr Paul R. ; Jacobson Paul T. ; Kusbel James F. ; Roundy James S. ; Aggarwal Ravinder K. ; Raaijmakers Ivo ; Lenz Rod ; Rajbharti Nilesh, Method for handling of wafers with minimal contact.
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  9. Welty,Richard P.; Brondum,Klaus; Richmond,Douglas S.; Jonte,Patrick B., Method of forming a wear resistant component.
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  10. Stone,William M.; Lopez,Robert, Method of manufacturing a workpiece chuck.
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  11. Anton, Bryce; Welty, Richard P.; Sullivan, Patrick, Method of producing an article having patterned decorative coating.
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  12. Totsuka, Masahiro; Oku, Tomoki; Hattori, Ryo, Process for manufacturing a semiconductor device.
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  13. Andrews, Richard M.; Buljan, Sergej-Tomislav, Rotary dressing tool containing brazed diamond layer.
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  14. Andrews, Richard M.; Buljan, Sergej-Tomislav, Rotary dressing tool containing brazed diamond layer.
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  15. Jing-Horng Gau TW, Structure of a DRAM and a manufacturing process thereof.
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  16. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Richmond, Douglas S.; Jonte, Patrick B.; Thomas, Kurt, Valve component for faucet.
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  17. Brondum, Klaus; Welty, Richard P.; Richmond, Douglas S.; Jonte, Patrick B.; Thomas, Kurt, Valve component for faucet.
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  18. Welty,Richard P.; Brondum,Klaus; Richmond,Douglas S.; Jonte,Patrick B., Valve component with improved wear resistance.
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  19. Welty, Richard P.; Brondum, Klaus; Richmond, Douglas S.; Jonte, Patrick B., Valve component with multiple surface layers.
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