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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0994687 (1992-12-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 42 인용 특허 : 0 |
A method for the electroplating of conductive metal onto a substrate containing at least one hole and an electroplateable surface which is conducive to subsequent metal deposition comprises placing the substrate in close proximity to an electrode but such that there is no substantial electrical cont
A method for the deposition of a conductive metal onto a substrate comprising: (a) providing a substrate comprising a dielectric material and having an electroplateable pattern on a surface thereof; wherein said electroplateable pattern comprises a material which is conducive to the subsequent depos
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