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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0390329 (1995-02-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 0 |
A method for filtering process gases prior to said process gases being allowed to enter a CVD chamber is provided in order to ensure high purity of the process gases. In one embodiment, the process gases are filtered with a first filter located in a first section of a gas line being isolated by valv
A method for controlling process gases, prior to said process gases being allowed to enter a CVD chamber, comprising the steps of: opening at least one valve of a first plurality of valves, each valve of said first plurality of valves being connected downstream from a respective input port of a plur
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