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특허 상세정보

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Fluorine cell

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C25B-009/00    C25B-011/12   
미국특허분류(USC) 204/229 ; 204/266 ; 204/286 ; 204/290 ; R
출원번호 US-0624409 (1996-04-01)
우선권정보 GB-0018598 (1994-09-14)
국제출원번호 PCT/GB95/02145 (1995-09-11)
§371/§102 date 1996May1 (1996May1)
국제공개번호 WO-9608589 (1996-03-21)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 6
초록
▼

An on-demand fluorine cell is described together with the construction of a suitable anode and a means of mounting the anode within the cell. The fluorine cell comprises a cell container having a cathode compartment and an anode compartment, the anode compartment having an anode therein, the cathode compartment and the anode compartment having separation means therebetween so as to separate fluorine gas and hydrogen gas generated during operation of said fluorine cell but said separation means allowing passage of electrolyte between said compartments; sa...

대표
청구항
▼

A fluorine cell for the production of fluorine, the fluorine cell comprising: a cell container for containing an electrolyte, a cathode compartment and an anode compartment, the electrolyte having a surface level, the anode compartment having an anode therein, the cathode compartment and the anode compartment having separation means therebetween so as to separate fluorine gas and hydrogen gas generated during operation of said fluorine cell but said separation means allowing passage of the electrolyte, when present, between said compartments; said anode ...

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Bauer Gerald L. (Hudson WI) Childs William V. (Stillwater MN) Kolpin Charles F. (River Falls WI) Rutten Dean T. (White Bear Lake MN). Anodic electrode for electrochemical fluorine cell. USP1994035290413.
  2. Young Stuart A. (Elmhurst IL) Zweifel Ronald A. (LaGrange IL) Caldwell Daniel L. (Downers Grove IL). Apparatus and method for generating hydrogen and oxygen by electrolytic dissociation of water. USP1991085037518.
  3. Kondo Teruhisa (Toyonaka JPX) Tojo Tetsuro (Kyoto JPX) Watanabe Nobuatsu (Nagaokakyo JPX). Carbon electrode, and method and apparatus for the electrolysis of a hydrogen fluoride-containing molten salt with the c. USP1992115160415.
  4. Bourgeois Louis (Brussels BEX). Electrolytic diaphragm cell. USP1979034144161.
  5. Bunn ; Jr. Julian W. (Raleigh NC) Buckley Charles O. (Lewisburg WV). Liquid level control system. USP1977014002552.
  6. Dill Raymond J. (1910 Erskine Dr. Florence AL 35630). Protective coating of stub ends in anode assemblies. USP1992105154813.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 18

  1. Tojo,Tetsuro; Hiraiwa,Jiro; Yoshimoto,Osamu. Apparatus and method for molten salt electrolytic bath control. USP2008017316765.
  2. Tojo, Tetsuro; Hiraiwa, Jiro; Takebayashi, Hitoshi; Tada, Yoshitomi. Apparatus for generating fluorine gas. USP2004116818105.
  3. Lenormand, Roland; Chaput, Christophe. Capacitive probe for measuring the level of an electricity-conducting liquid in a vessel and method of manufacturing such a probe. USP2005016844743.
  4. Diana, Oliviero. Chamber cleaning method using F2 and a process for manufacture of F2 for this method. USP2017099757775.
  5. Bhardwaj, Jyoti Kiron; Shepherd, Nicholas; Lea, Leslie Michael; Hodgson, Graham. Chlorotrifuorine gas generator system. USP2005086929784.
  6. Tojo, Tetsuro; Hiraiwa, Jiro; Takebayashi, Hitoshi; Kodama, Masashi. Electrolytic apparatus for producing fluorine or nitrogen trifluoride. USP2013048419921.
  7. Tojo, Tetsuro; Hiraiwa, Jiro; Takebayashi, Hitoshi; Kodama, Masashi. Electrolytic apparatus for producing fluorine or nitrogen trifluoride. USP2013048419908.
  8. Tojo, Tetsuro; Hiraiwa, Jiro; Takebayashi, Hitoshi; Kodama, Masashi. Electrolytic apparatus for producing fluorine or nitrogen trifluoride. USP2012038142623.
  9. Hodgson,Graham; Dawson,Robert. Fluorine cell. USP2009017481911.
  10. Tharp Larry A.. Fluorine gas generation system. USP2001046210549.
  11. Hiraiwa,Jiro; Yoshimoto,Osamu; Tojo,Tetsuro. Fluorine gas generator and method of electrolytic bath liquid level control. USP2008047351322.
  12. Goto, Haruhiro Harry; Harshbarger, William R.; Shang, Quanyuan; Law, Kam S.. Fluorine process for cleaning semiconductor process chamber. USP2005046880561.
  13. Jacobson, Craig P.; Visco, Steven J.; DeJonghe, Lutgard C.; Stefan, Constantin I.. Fluorine separation and generation device. USP2010037670475.
  14. Jacobson,Craig P.; Visco,Steven J.; De Jonghe,Lutgard C.; Stefan,Constantin I.. Fluorine separation and generation device. USP2008127468120.
  15. Jacobson,Craig P.; Visco,Steven J.; De Jonghe,Lutgard C.; Stefan,Constantin I.. Fluorine separation and generation device. USP2006087090752.
  16. Bhardwaj, Jyoti Kiron. Gas generation system. USP2005086926871.
  17. Shang, Quanyuan; Yadav, Sanjay; Harshbarger, William R.; Law, Kam S.. On-site cleaning gas generation for process chamber cleaning. USP2005016843258.
  18. Shang,Quanyuan; Yadav,Sanjay; Harshbarger,William R.; Law,Kam S.. On-site cleaning gas generation for process chamber cleaning. USP2006016981508.

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