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Method and apparatus for supply of liquid raw material gas

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-003/42
출원번호 US-0508561 (1995-07-28)
우선권정보 JP-0204488 (1994-08-05)
발명자 / 주소
  • Oguro Kyoji (Gunma-ken JPX) Kurosawa Yasushi (Gunma-ken JPX)
출원인 / 주소
  • Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 4

초록

The mixed gas of a liquid raw material is stably supplied to not only one reactor but also a plurality of reactors as maintained with high purity at a fixed concentration. A method to supply a liquid raw material gas by the steps of storing a liquid raw material 31 in a bubbling tank 13 with maintai

대표청구항

An apparatus to supply a liquid raw material gas adapted to store a liquid raw material in a bubbling tank and bubble a carrier gas through the liquid raw material so as to evaporate the liquid raw material and meanwhile generate a mixed gas composed of the carrier gas and the liquid raw material, c

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Yamaguchi Tooru (Itami JPX) Tsutahara Kouichirou (Itami JPX) Suenaga Takayuki (Itami JPX), Liquid vaporizing apparatus.
  2. Lynch Brian (Norcross GA) Narasimham Pundi L. (Norcross GA) Partus Fred P. (Marietta GA), Methods of and apparatus for vapor delivery control in optical preform manufacture.
  3. Partus Fred P. (Cobbs County GA), Vapor delivery control system and method.
  4. McMenamin Joseph C. (Fresno CA), Vapor mass flow control system.

이 특허를 인용한 특허 (4)

  1. Nurmi Douglas B., Continuous gas saturation system and method.
  2. Bauch,Hartmut; Bewig,Lars; Klippe,Lutz; K��pper,Thomas, Gas supply method in a CVD coating system for precursors with a low vapor pressure.
  3. Olsson Sven-Gunnar,SEX ; Rydgren Goran,SEX ; Larsson Anders,SEX ; Niininen Tarmo,SEX, Method for vaporizing an anesthetic liquid and vaporizer operating according to the method.
  4. Hirose, Katsuhito; Miyazawa, Toshio; Hirata, Toshiharu; Tanaka, Toshimasa, Processing apparatus and process status checking method.
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