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Boule oscillation patterns in methods of producing fused silica glass 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03B-020/00
출원번호 US-0712298 (1996-09-11)
발명자 / 주소
  • Maxon John E. (Canton NY)
출원인 / 주소
  • Corning Incorporated (Corning NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 0

초록

Oscillation/rotation patterns for improving the off-axis homogeneity of fused silica boules are provided. The patterns reduce the optical effects of periodic off-axis striae by decreasing the ratio of Dstriae to Dstriae, where Dstriae is the average peak-to-valley magnitude of the striae and Dstriae

대표청구항

A method for forming a silica-containing body comprising: (a) providing a source of soot particles; (b) collecting the soot particles to form the body, said collection causing the thickness of the body to increase; and (c) providing relative oscillatory motion between the source and the body as the

이 특허를 인용한 특허 (18)

  1. Marley Floyd E. ; Misra Mahendra K. ; Sproul Merrill F., Apparatus for minimizing air infiltration in the production of fused silica glass.
  2. Bauch, Hartmut; Hack, Hraban; Rudiger, Frank; Schindelbeck, Thomas; Martin, Rolf; Menzel, Andreas; Schmidt, Matthias; Scholz, Roland; Voitsch, Andreas, Device for generating an optically homogeneous, streak-free quartz glass body having a large diameter.
  3. Dawes, Steven B.; Fiacco, Richard M.; Hrdina, Kenneth E.; Wasilewski, Michael H., Doped silica glass articles and methods of forming doped silica glass boules and articles.
  4. Schermerhorn Paul M., Furnace for producing fused silica glass.
  5. Roger J. Araujo ; Nicholas F. Borrelli ; Robert E. McLay ; Daniel R. Sempolinski ; Charlene M. Smith, Fused silica with constant induced absorption.
  6. Pandelisev, Kiril A., Hot substrate deposition of fused silica.
  7. Floyd E. Marley ; Mahendra K. Misra ; Merrill F. Sproul, Method and apparatus for minimizing air infiltration in the production of fused silica glass.
  8. Groh, Raymond D; Harper, Brian Lee; Maxon, John Edward, Method for forming fused silica glass using multiple burners.
  9. Hrdina, Kenneth E.; Russo, Nikki J.; Wasilewski, Michael H., Method for producing fused silica and doped fused silica glass.
  10. Hiraiwa Hiroyuki,JPX ; Tanaka Issey,JPX ; Miyoshi Katsuya,JPX, Optical member for photolithography, method for evaluating optical member, and photolithography apparatus.
  11. Richard S. Priestley ; Daniel R. Sempolinski ; Chunzhe C. Yu, Photolithography method, photolithography mask blanks, and method of making.
  12. Richard S. Priestley ; Daniel R. Sempolinski ; Chunzhe C. Yu, Photolithography method, photolithography mask blanks, and method of making.
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  18. Duran, Carlos Alberto, Ultralow expansion glass.
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