[특허]Thermal and chemical remediation of mixed wastes

The University of Chicago (Chicago IL 02)

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Thermal and chemical remediation of mixed wastes

국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	F23J-011/00
출원번호	US-0522369 (1995-12-04)
국제출원번호	PCT/US94/04398 (1994-04-21)
§371/§102 date	19951204 (19951204)
국제공개번호	WO-9425799 (1994-11-10)
발명자 / 주소	Nelson Paul A. (Wheaton IL) Swift William M. (Downers Grove IL)
출원인 / 주소	The University of Chicago (Chicago IL 02)
인용정보	피인용 횟수 : 4 인용 특허 : 5

초록 ▼

A process for treating organic waste materials without venting gaseous emissions to the atmosphere which includes oxidizing the organic waste materials at an elevated temperature not less than about 500°C. with a gas having an oxygen content in the range of from about 20% to about 70% to produce an oxidation product containing CO2 gas. The gas is then filtered to remove particulates, and then contacted with an aqueous absorbent solution of alkali metal carbonates or alkanolamines to absorb a portion of the CO2 gas from the particulate-free oxidation product. The CO2 absorbent is thereafter separated for further processing. A process and system are also disclosed in which the waste materials are contacted with a reactive medium such as lime and product treatment as described.

대표청구항 ▼

A process for treating organic waste materials without venting gaseous emissions to the atmosphere, comprising oxidizing the organic waste materials at an elevated temperature not less than about 500°C. with a gas having an oxygen content in the range of from about 20% to about 70% to produce an oxidation product containing CO2 gas, filtering the oxidation product containing CO2 gas to remove particulates, contacting the particulate-free oxidation product containing CO2 with an aqueous absorbent solution of alkali metal carbonates or alkanolamines to absorb a portion of the CO2 gas from the particulate-free oxidation product, and separating the CO2 absorbent for further processing and recycling the remaining CO2 gas for oxidation.

이 특허에 인용된 특허 (5)

Abboud Harry I. (5845 Clematis Dr. Baton Rouge LA 70808) Efferson Chip (Rte. 2 ; Box 2445 Ethel LA 70730), Closed loop incineration process.
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Meratla Zoher M. (2275 Westhill Drive West Vancouver ; British Columbia CAX V7S 2Z2), Method and apparatus for removing pollutants from flue gas.
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Furukawa Masaaki (Kanagawa JPX) Yoshida Hiroshi (Kanagawa JPX) Naito Takeyuki (Kanagawa JPX) Sato Keiichi (Kanagawa JPX), Method of controlling combustion in a fluidized bed furnace.
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Hattiangadi Uday S. (Ponca City OK), Recirculating flue gas fluidized bed heater.
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Appleby Vernon L. (1720 W. Bayshore ; No. 19 Palo Alto CA 94303), Trash disposal system.
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이 특허를 인용한 특허 (4)

Balachandran Uthamalingam ; Bose Arun C. ; McIlvried Howard G., Carbon dioxide remediation via oxygen-enriched combustion using dense ceramic membranes.
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Taylor Tommy G., Chlorinated hydrocarbon waste incinerator and valorization of chlorinated residuals process unit.
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Marin,Ovidiu; Perrin,Nicolas; Pranda,Pavol, Process for burning sulfur-containing fuels.
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Yokohama, Katsuhiko; Kosaka, Kenichiro; Matsumoto, Keigo; Kawamoto, Noboru; Yamaguchi, Yoshiki; Kinoshita, Masaaki; Ohura, Koji; Tsutsumi, Atsushi; Kaneko, Shozo; Mochizuki, Kazuhiro; Fushimi, Chihiro; Kansha, Yasuki, Water-containing solid fuel drying apparatus and drying method.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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