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Integrated delivery system for chemical vapor from non-gaseous sources for semiconductor processing 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
출원번호 US-0086970 (1993-07-02)
발명자 / 주소
  • Stauffer Craig M. (3066 Scott Blvd. Santa Clara CA 95054)
인용정보 피인용 횟수 : 20  인용 특허 : 7

초록

An integrated module with a heated reservoir to vaporize liquid for semiconductor processes with liquid sources is presented. Shut-off valves and a proportioning pressure valve for controlling the flow of the vapor from the reservoir are mounted on the module for simple conduction heating of the val

대표청구항

An integrated chemical vapor delivery system for delivery of chemical vapor from a liquid source to a processing unit with a processing chamber therein for semiconductor wafers, said system comprising a housing having a wall and means for mounting said housing to said processing chamber; a reservoir

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Hgfeldt ; deceased Carl-Erik (late of Stockholm SEX by Birgitta Hgfeldt ; administrator), Electrical steam generator for intermittent operation.
  2. Heinecke Rudolf A. H. (Harlow GB2) Stern Ronald C. (Cheshunt GB2) Cooke Michael J. (Harlow GB2), Metallization plant.
  3. Pierce John M. (Palo Alto CA) Lehrer William I. (Los Altos CA), Method and apparatus for low pressure chemical vapor deposition.
  4. Egan James J. (Allentown PA) Koze Jeffrey T. (Whitehall PA) Kumagai Henry Y. (Allentown PA), Methods of and apparatus for storing and delivering a fluid.
  5. Miyajiri, Tetsuo; Habasaki, Toshimi; Yokota, Hiroshi; Tsurita, Tamio; Nakahara, Motohiro, Raw material supply device.
  6. Barbee Steven G. (Dover Plains NY) Devine Gregory P. (Poughguag NY) Patrick William J. (Newburgh NY) Seeley Gerard (Wappingers Falls NY), Vacuum deposition system with improved mass flow control.
  7. McMenamin Joseph C. (Oceanside CA), Vapor mass flow control system.

이 특허를 인용한 특허 (20)

  1. Milner, David V., Apparatus and method for regulating gas flow.
  2. Oosterlaken, Theodorus G. M., Delivery of vapor precursor from solid source.
  3. Shero, Eric J.; Verghese, Mohith; Maes, Jan Willem, High concentration water pulses for atomic layer deposition.
  4. Nguyen, Tue; Bercaw, Craig Alan, Integrated precursor delivery system.
  5. Furukawahara, Kazunori; Fukuda, Hideaki, Liquid material vaporization apparatus for semiconductor processing apparatus.
  6. Bhandari Gautam ; Baum Thomas H., Liquid reagent delivery system with constant thermal loading of vaporizer.
  7. Schmitt John ; Zheng Bo ; Chang Mei ; Voss Stephen, Method and apparatus for improved control of process and purge material in substrate processing system.
  8. Tuominen, Marko; Shero, Eric; Verghese, Mohith, Method for controlling the sublimation of reactants.
  9. Jan Snijders, Gert; Raaijmakers, Ivo, Method for vaporizing non-gaseous precursor in a fluidized bed.
  10. Soininen, Pekka T., Safe liquid source containers.
  11. Soininen,Pekka T., Safe liquid source containers.
  12. Soininen,Pekka T., Safe liquid source containers.
  13. Shero,Eric J.; Givens,Michael E.; Schmidt,Ryan, Sublimation bed employing carrier gas guidance structures.
  14. Inatomi, Yuichiro, Substrate processing apparatus.
  15. Inatomi, Yuichiro, Substrate processing method, storage medium storing program for executing substrate processing method and substrate processing apparatus.
  16. Buchanan, Daryl; Tariq, Faisal; Mei, Hai; Tison, Stuart, System and method for producing and delivering vapor.
  17. Tuominen, Marko; Shero, Eric; Verghese, Mohith, System for controlling the sublimation of reactants.
  18. Tuominen, Marko; Shero, Eric; Verghese, Mohith, System for controlling the sublimation of reactants.
  19. Hinkle Luke D. ; Lischer D. Jeffrey, System for delivering a substantially constant vapor flow to a chemical process reactor.
  20. Gelernt,Barry; Matthews,James Clifford, Vapor flow controller.
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