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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0577560 (1995-12-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 0 |
An HMDS tank for use in an integrated circuit fabrication process includes a tank configured to hold HMDS having an first inlet port configured to receive a carrier gas below an HMDS surface level, an outlet port configured to release said carrier gas saturated with HMDS above the HMDS surface level
A tank apparatus for use in an integrated circuit fabrication process, comprising: a tank configured to hold a liquid, said tank having a first inlet port configured to receive a carrier gas below a liquid surface level, an outlet port configured to release said carrier gas saturated with said liqui
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