$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Silica glass member for UV-lithography, method for silica glass production, and method for silica glass member productio 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C03B-020/00
출원번호 US-0479130 (1995-06-07)
우선권정보 JP-0022293 (1993-02-10); JP-0022294 (1993-02-10); JP-0098218 (1993-04-23); JP-0330740 (1993-12-27)
발명자 / 주소
  • Hiraiwa Hiroyuki (Yokohama JPX) Nakagawa Kazuhiro (Hachioji JPX) Jinbo Hiroki (Kawasaki JPX) Takano Jun (Sagamihara JPX) Fujiwara Seishi (Sagamihara JPX)
출원인 / 주소
  • Nikon Corporation (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 7

초록 ▼

Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 m

대표청구항 ▼

A method of producing a silica glass member, comprising emitting Si compound gas, oxygen gas and hydrogen gas from a burner to deposit silica soot by the direct method on a rotating target in such a manner as to form an ingot of transparent silica glass, cutting out of the ingot a silica glass body

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Yoshimura Ichiro (Yokohama JPX), High temperature furnace with thermal insulation.
    상세보기
  2. Kyoto Michihisa (Yokohama JPX) Ishiguro Yoichi (Yokohama JPX) Urano Akira (Yokohama JPX) Kakuzen Hideo (Yokohama JPX), Method for producing glass preform for optical fiber.
    상세보기
  3. Bocko Peter L. (Painted Post NY) Wein William J. (Corning NY) Young Charles E. (Watkins Glen NY), Method for synthesizing MgO－Al2O3－SiO2 glasses and ceramics.
    상세보기
  4. Bachman David L. (Lindley NY) Lewis ; Jr. William C. (Big Flats NY) Schultz Peter C. (Painted Post NY) Voorhees Francis W. (Painted Post NY), Method of making fused silica-containing material.
    상세보기
  5. Blankenship Michael G. (Corning NY), Method of making optical devices.
    상세보기
  6. Schultz Peter C. (Painted Post NY), Method of producing glass optical filaments.
    상세보기
  7. Yamagata Shigeru (Kohriyama JPX) Inaki Kyoichi (Kohriyama JPX) Matsuya Toshikatu (Kohriyama JPX) Takke Ralf (Hanau DEX) Thomas Stephan (Grosskrotzenburg DEX) Fabian Heinz (Hanau DEX), Optical members and blanks or synthetic silica glass and method for their production.
    상세보기

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Marley, Floyd E.; Sempolinski, Daniel R.; Sproul, Merrill F., Furnaces for fused silica production.
    상세보기
  2. Collins, Thomas A.; He, Chunhong; Heckle, Christine E.; Lindner, Raymond E.; Wasilewski, Michael H., High heat capacity burners for producing fused silica boules.
    상세보기
  3. Choy, Kwang-Leong; Chang, Issac Tsz Hong, Material deposition.
    상세보기
  4. Komine Norio,JPX ; Hiraiwa Hiroyuki,JPX, Method for producing a silica glass.
    상세보기
  5. Hawtof, Daniel W., Method of producing oxide soot using a burner with a planar burner face.
    상세보기
  6. Marley, Floyd E.; Sempolinski, Daniel R.; Sproul, Merrill F., Methods and furnaces for fused silica production.
    상세보기
  7. Cain Michael B. ; Desorice Robert B. ; Kiefer William J. ; Powers Dale R., Precision burners for oxidizing halide-free silicon-containing compounds.
    상세보기
  8. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Yu, Charles Chunzhe, Projection lithography photomask blanks, preforms and method of making.
    상세보기
  9. Berkey George Edward ; Moore Lisa Anne ; Yu Charles Chunzhe, Projection lithography photomask blanks, preforms and methods of making.
    상세보기
  10. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Pierson, Michelle Diane, Projection lithography photomasks and method of making.
    상세보기
  11. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Pierson, Michelle Diane, Projection lithography photomasks and method of making.
    상세보기
  12. Berkey George Edward ; Moore Lisa Anne ; Pierson Michelle Diane, Projection lithography photomasks and methods of making.
    상세보기
  13. Komine, Norio; Yoshida, Akiko; Jinbo, Hiroki; Fujiwara, Seishi, Quartz glass member and projection aligner.
    상세보기
  14. Adler, Meryle D. M.; Brown, John T.; Misra, Mahendra K., Sealed, nozzle-mix burners for silica deposition.
    상세보기
  15. Ohashi Norio,JPX ; Kuriyama Michiyo,JPX ; Yamagata Shigeru,JPX ; Sunada Shigemasa,JPX, Synthetic silica glass used with uv-rays and method producing the same.
    상세보기
  16. Lisa A. Moore ; Charlene Smith, Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
    상세보기
  17. Moore Lisa A. ; Smith Charlene, Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
    상세보기
  18. Moore, Lisa A.; Smith, Charlene M., Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
    상세보기
  19. Moore, Lisa A.; Smith, Charlene M., Vacuum ultraviolet trasmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
    상세보기

관련 콘텐츠

문의처: helpdesk@kisti.re.kr전화: 080-969-4114

Copyright KISTI. All Rights Reserved.

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로