[특허]Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products

Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C08G-077/12
출원번호	US-0574961 (1995-12-19)
발명자 / 주소	Henderson Danny L. (Wilmington NC) Powers Dale R. (Painted Post NY)
출원인 / 주소	Corning Incorporated (Corning NY 02)
인용정보	피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 16

초록 ▼

The present invention is directed to a purified polyalkylsiloxane composition having a boiling point, under atmospheric conditions, of less than about 250°C. and containing high boiling impurities, including siloxanes and silanol-terminated siloxanes, that have boiling points, under atmospheric conditions, of greater than about 250°C. in a total concentration of less than 14 ppm. The present invention is further directed to a method of producing a purified polyalkylsiloxane composition, having a boiling point, under atmospheric conditions, of less than about 250°C., by distilling a polyalkylsiloxane starting material containing high boiling impurities having boiling points, under atmospheric conditions, of greater than about 250°C. in a total concentration of at least 14 ppm, under conditions effective to produce a purified polyalkylsiloxane composition having a boiling point under atmospheric conditions of less than about 250°C., and containing high boiling impurities, having boiling points, under atmospheric conditions, of greater than about 250°C., in a total concentration of less than 14 ppm. In preferred embodiments, low boiling components (including silanols and preferably also hexamethylcyclotrisiloxane) are reduced to less than about 100 ppm. The present invention is further directed to a method of producing fused silica glass by conversion of the purified polyalkylsiloxane composition.

대표청구항 ▼

A method of purifying polyalkylsiloxanes comprising: providing a polyalkylsiloxane starting material containing impurities having boiling points, under atmospheric conditions, of greater than 250°C., in a total concentration of at least 14 ppm; and distilling the polyalkylsiloxane starting material under conditions effective to produce a purified polyalkylsiloxane composition, having a boiling point, under atmospheric conditions, of less than 250°C., and a total concentration of less than 14 ppm of said impurities having boiling points, under atmospheric conditions, of greater than about 250°C.

이 특허에 인용된 특허 (16)

Ashby ; Bruce Allan, Continuous devolatilization of silanol-terminated silicone polymer.
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Antos A. Joseph (Wilmington NC) Dobbins Michael S. (Wilmington NC) Olson ; III Victor E. (Wilmington NC) Powers Dale R. (Painted Post NY) Voorhees Francis W. (Wilmington NC), Flash vaporizer system for use in manufacturing optical waveguide fiber.
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Bhagavatula Venkata A. (Big Flats NY), Manufacturing method for planar optical waveguides.
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Cain Michael B. (Corning NY) Dobbins Michael S. (Corning NY), Method and apparatus for vaporization of liquid reactants.
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Blackwell Jeffery L. (Corning NY) Dobbins Michael S. (Wilmington NC) McLay Robert E. (Corning NY) Truesdale Carlton M. (Corning NY), Method of making fused silica.
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Dobbins Michael S. (Wilmington NC) McLay Robert E. (Corning NY), Method of making fused silica by decomposing siloxanes.
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Itoh Kunio (Takasaki JPX) Shinohara Toshio (Takasaki JPX) Kizaki Hiroaki (Annaka JPX) Tanaka Shoichi (Annaka JPX) Satou Yukinori (Annaka JPX) Umemura Kazunobu (Annaka JPX), Method of producing dimethylpolysiloxanes.
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Biggs Timothy N. (Midland MI) Le Grow Gary E. (Midland MI), Methods of making polysiloxanes.
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Goodwin George B. (Mars PA) Kenney Malcolm E. (Cleveland Heights OH), Novel route to Ca₈Si₄O₁₂Cl₈, alkoxycyclotetrasiloxanes, aryloxyc.
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Freeman Dean W. (Garland TX), Oxide deposition method.
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Bhagavatula Venkata A. (Big Flats NY), Planar optical waveguides with planar optical elements.
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Miller Stephen B. (Corning NY) Stewart Ronald L. (Big Flats NY) Thompson David A. (Horseheads NY), Process for making sintered glasses and ceramics.
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Baile Gnaneshwar R. (Midland MI) Crompton Jane A. (Midland MI) McMahon Daniel F. (Midland MI), Process for preparation of cyclopolydiorganosiloxanes.
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Yajima Seishi (Oharai JPX) Okamura Kiyohito (Oharai JPX) Shishido Toetsu (Oharai JPX) Hasegawa Yoshio (Oharai JPX), Process for producing heat-resistant semi-inorganic compounds.
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Ashby Bruce A. (Schenectady NY) McEntee Harry R. (Waterford NY), Purification of hydrosilanes and siloxanes.
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Lesk Israel A. (1750 E. Oregon Ave. Phoenix AZ 85016) Sarma Kalluri R. (2352 S. Los Altos Ave. Mesa AZ 85202), Silicon deposition process.
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이 특허를 인용한 특허 (10)

Bernstein, Lewis A; Bookbinder, Dana Craig; Dillard, Jason A; Porter, Jennifer L; Suman, Balram; Tandon, Pushkar, Apparatus for mixing vaporized precursor and gas and method therefor.
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Bernstein, Lewis A; Bookbinder, Dana Craig; Dillard, Jason Allen; Porter, Jennifer L; Suman, Balram; Tandon, Pushkar, Apparatus for mixing vaporized precursor and gas and method therefor.
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Fabian, Heinz; Roeper, Juergen, Atomizing method for producing synthetic quartz glass.
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Blackwell Jeffery L. ; Fu Xiaodong ; Hawtof Daniel W. ; Henderson Danny L., Method and apparatus for forming silica by combustion of liquid reactants using a heater.
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Fabian, Heinz, Method for producing synthetic quartz glass.
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Fabian, Heinz; Roeper, Juergen, Method for producing synthetic quartz glass.
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Fabian, Heinz; Roeper, Juergen, Method for producing synthetic quartz glass.
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Henderson Danny L. ; Powers Dale R., Method for purifying polyalkylsiloxanes and the resulting products.
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Galante, Marco; Arimondi, Marco; Roba, Giacomo Stefano; Santi, Ilenia, Method for vaporizing a liquid reactant in manufacturing a glass preform.
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Chu, Polly W.; Ellison, Adam J. G.; Goforth, Douglas E.; Hawtof, Daniel W.; Whalen, Joseph M., Optical gain fibers.
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