[특허]Silicon or silica substrate with a modified surface, process for producing the same, new orthoesters and process for p

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Silicon or silica substrate with a modified surface, process for producing the same, new orthoesters and process for p 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C03C-017/28 C04B-041/46 C07C-069/54
출원번호	US-0211191 (1994-05-19)
우선권정보	CH-0001644 (1993-06-02)
국제출원번호	PCT/CH93/001 (1993-07-06)
§371/§102 date	19940519 (19940519)
국제공개번호	WO-9402425 (1994-02-03)
발명자 / 주소	Guidotti Bruno,CHX Caseri Walter,CHX Suter Ulrich,CHX Saur Wolfgang,CHX
출원인 / 주소	Owens-Corning Fiberglas Technology Inc.
대리인 / 주소	Gegenheimer
인용정보	피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 6

초록 ▼

The silicon or silica substrates described have a modified surface of a new type occupied by the alcohol fraction of an orthoester. The alcohol fraction may be saturated or unsaturated. The surface of the substrate is modified by being treated with an orthoester, the water being eliminated from the surface by hydrolysis and then replaced by the resulting alcohol or silylether. Besides many other compounds, new orthoesters having the formula R.sup.1 C[OCH.sub.2 --CH.sub.2 --O--CO--CH.dbd.CH.sub.2 ].sub.3, in which R.sup.1 stands for hydrogen or for a clearable organic residue, R stands for (CH.sub.2).sub.n, in which n stands for an integer between 1 and 18, and new orthoesters having the formula (I), are particularly appropriate. In the formula (I), R.sup.1 stands for hydrogen or an organic residue, R.sup.3 stands for hydrogen or an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms; and R.sup.4 stands for hydrogen, an alkyl group or an alkyl group or a phenyl group. The modified surfaces have a larger wetting or contact angle, and thus a reduced wettability. In addition, they are capable of reacting with other monomers or polymers by means of all sorts of reactive substituents. This kind of surface modification advantageously replaces the silanization which was up to now usual for glass and other silicates.

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A silicon substrate or silicon dioxide substrate having at least one surface comprising alcohol or silylether moieties prepared by contacting a surface of said substrate with at least one orthoester.

이 특허에 인용된 특허 (6)

Vogel Viola (Gttingen DEX) Mbius Dietmar (Waake DEX), Film comprising at least one unimolecular layer.
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Eisenhardt ; Jr. William A. (Yorktown Heights NY) Hedaya Eddie (White Plains NY) Theodoropulos Spyros (Yorktown Heights NY), Novel isocyanates.
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Saaski Elric W. (13338 NE. 138th Pl. Kirkland WA 98034) Hartl James C. (P.O. Box 918 Snohomish WA 98290), Optical measuring device using a spectral modulation sensor having an optically resonant structure.
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Nishikawa Akio (Hitachi JPX) Koyama Toru (Hitachi JPX) Asano Hideki (Mito JPX) Narahara Toshikazu (Ibaraki JPX), Polymer from nitrile terminated compounds having Schiff bonds and process for preparing the same.
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Blount ; David H., Production of the reaction products of oxidated silicon compounds reacting with organic monohydroxy compounds.
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Goel Anil B. (Worthington OH) Grimm Robert A. (Columbus OH) Blackburn Peggy A. (Plain City OH) Richards Harvey J. (Columbus OH), Surface modification of inorganic fillers by treatment with bicyclic amide acetals.
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이 특허를 인용한 특허 (7)

Zook, Jonathan D.; Mullins, Dewey L.; Pyrek, Stephane; Jordan, David W., Frozen, lightweight curable sealant.
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Zook, Jonathan D.; Mullins, II, Dewey L.; Pyrek, Stephane E.; Jordan, David W. A., Frozen, lightweight curable sealant.
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Crivello James Vincent, Glass-like composites comprising a surface-modified colloidal silica and method of making thereof.
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Ramos, Teresa A.; Roth, Robert R.; Bhanap, Anil S.; Apen, Paul G.; Endisch, Denis H.; Daniels, Brian J.; Naman, Ananth; Iwamoto, Nancy; Leung, Roger Y., Method for making toughening agent materials.
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Hacker, Nigel P.; Thomas, Michael; Drage, James S., Method to restore hydrophobicity in dielectric films and materials.
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Colon Luis A., Silica materials.
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Sigman, Michael E.; Dindal, Amy B., Sol-gel derived sorbents.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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