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Crosslinked polymers

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C08F-021/214
  • C08F-021/616
출원번호 US-0572343 (1995-12-14)
우선권정보 CH-0000553 (1995-02-27)
발명자 / 주소
  • Schacht Hans-Thomas,DEX
  • Muenzel Norbert,DEX
  • Mertesdorf Carl-Lorenz,DEX
  • Falcigno Pasquale Alfred,CHX
  • Holzwarth Heinz,DEX
  • Rohde
  • deceased Ottmar,DEX ITX by Li-Chun Tseng-Rohde
  • legal repres
출원인 / 주소
  • Olin Microelectronic Chemicals, Inc.
대리인 / 주소
    Simons
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 0

초록

Polymers based on combination of different repeating units derived from hydroxy styrene and hydroxyvinylcyclohexane derivatives wherein a portion of the hydroxyl groups are replaced with either acid-labile acetal or ketal protecting groups and where a portion of the repeating groups comprise two cro

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A polymer having an average molecular weight M.sub.w (weight average) of from 5,000 to 1,000,000 (measured by means of gel permeation chromatography) comprising structural repeating units of the formulae (I) , (II), ( IV), (V) and (VI): [ STR 6 ] wherein each R.sub.1 and

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Mitsuharu Yamana JP, Chemically amplified resist compositions.
  2. Schacht Hans-Thomas,DEX ; Muenzel Norbert,DEX ; Mertesdorf Carl-Lorenz,DEX ; Falcigno Pasquale Alfred,CHX ; Holzwarth Heinz,DEX ; Rohde ; deceased Ottmar,DEX ITX by Li-Chun Tseng-Rohde ; legal repres, Crosslinked polymers.
  3. Shimada Junji,JPX ; Watanabe Osamu,JPX ; Watanabe Satoshi,JPX ; Nagura Shigehiro,JPX ; Ishihara Toshinobu,JPX, Partially hydrogenated polymers and chemically amplified positive resist compositions.
  4. Varanasi Pushkara R. ; Katnani Ahmad D. ; Khojasteh Mahmoud M. ; Kwong Ranee W., Photoresist compositions with pendant polar-functionalized aromatic groups and acid-labile branching.
  5. Varanasi Pushkara R. ; Katnani Ahmad D. ; Khojasteh Mahmoud M. ; Kwong Ranee W., Photoresist compositions with pendant polar-functionalized aromatic groups and acid-labile branching.
  6. Brabbs, Noel Stephen; Street, Andrew Charles; Goodchild, Karen; Chappel, Jr., Cornell; Siddiqui, Junaid Ahmed; Rogers, Stephen Derek, Polymeric film having a coating layer of a phosphonic acid group containing polymer.
  7. Noel Stephen Brabbs GB; Andrew Charles Street GB; Karen Goodchild GB; Cornell Chappel, Jr. ; Junaid Ahmed Siddiqui ; Stephen Derek Rogers GB, Polymeric film having a coating layer of a phosphonic acid group containing polymer.
  8. Bantu Nageshwer Rao ; Perry Donald Frank ; Marshall Jacqueline Marie ; Holt Timothy Michael, Preparation of partially cross-linked polymers and their use in pattern formation.
  9. Bantu Nageshwer Rao ; Perry Donald Frank ; Marshall Jacqueline Marie ; Holt Timothy Michael, Preparation of partially cross-linked polymers and their use in pattern formation.
  10. Okazaki Hiroshi,JPX ; Pawlowski Georg,JPX ; Funato Satoru,JPX ; Kinoshita Yoshiaki,JPX ; Yamaguchi Yuko,JPX, Process for preparing resists.
  11. Okazaki, Hiroshi; Pawlowski, Georg; Funato, Satoru; Kinoshita, Yoshiaki; Yamaguchi, Yuko, Process for preparing resists.
  12. Satoshi Watanabe,JPX ; Osamu Watanabe,JPX ; Tomoyoshi Furihata,JPX ; Yoshifumi Takeda,JPX ; Shigehiro Nagura,JPX ; Toshinobu Ishihara,JPX ; Tsuguo Yamaoka,JPX, Resist composition and patterning process.
  13. Osamu Watanabe JP; Shimada Junji JP; Nagura Shigehiro JP; Takeda Takanobu JP, Styrene polymer, chemically amplified positive resist composition and patterning process.
  14. Watanabe, Osamu; Junji, Shimada; Shigehiro, Nagura; Takanobu, Takeda, Styrene polymer, chemically amplified positive resist composition and patterning process.

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