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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0607643 (1996-02-27) |
우선권정보 | JP-0067047 (1995-03-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 83 인용 특허 : 9 |
A substrate holding assembly for horizontally holding a substrate to be treated is provided in a heat treatment chamber of a heat treatment apparatus. The substrate holding assembly has an annular base, and a plurality of fixed support projections provided on the annular base, for holding the unders
[ What is claimed is:] [1.] A heat treatment apparatus comprising substrate holding means for horizontally supporting a substrate to be treated, the substrate holding means comprising:a fixed support portion for securely supporting an underside of a peripheral portion of the substrate to be treated,
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