[특허]Resin composition

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[미국특허] Resin composition 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03F-070/38
출원번호	US-0680551 (1996-07-09)
우선권정보	JP-0100903 (1994-05-16)
발명자 / 주소	Nakamura Shigeo,JPX Oshimura Masahiko,JPX Mori Kenichi,JPX Yokota Tadahiko,JPX Koto Hiroyasu,JPX
출원인 / 주소	Ajinomoto Co., Inc., JPX
대리인 / 주소	Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C.
인용정보	피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 0

초록

An alkali soluble resin and a resin composition thereof useful as a solder resist, having good adhesive properties, solder heat resistance, and plating resistance are provided. Particular resistance to plating under alkaline conditions is provided by the invention.

대표청구항 ▼

[ What is claimed as new and desired to be secured by Letters Patent of the United States is:] [1.] A resin composition, comprising:A) 1) an alkali soluble polymer having a phenolic hydroxy group and a number average molecular weight in the range of from 300 to 30,000, and 2) a compound having a) two or more polymerizable double bonds and b) an isocyanate group or an epoxy group in its molecule,wherein the ratio of isocyanate or epoxy equivalent of compound 2) to hydroxyl equivalent of compound 1) is in the range of from 0.1 to 0.8; andB), a compound having one or more functional groups which can react with the phenolic hydroxyl group by application of heat.

이 특허를 인용한 특허 (8)

Takei, Satoshi; Mizusawa, Ken ichi; Sone, Yasuhisa, Composition for forming gap-filling material for lithography.
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Setlak Dale R. ; Van Vonno Nicolass W. ; Newton Mike ; Salatino Matthew M., Fingerprint sensor including an anisotropic dielectric coating and associated methods.
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Miyazaki, Akira; Mori, Yasunori; Kubo, Koichi; Kakuta, Haruya, Fingerprint-erasing cured film, method for manufacturing same, display and touch panel using same, and electronic device using these.
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Kang, Hoon; Kim, Jae-Sung; Jung, Yang-Ho; Lee, Hi-Kuk; Kameyama, Yasuhiro; Mizuho, Yuuji; Kim, Jong-Cheol; Choi, Se-Jin, Negative photoresist composition and method of manufacturing array substrate using the same.
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Chen, Yi Jing; Chou, Nai Tien; Huang, Hsin Yi; Li, Yen-Cheng, Negative-type photoresist composition for thick film and use thereof.
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Okazaki Hiroshi,JPX ; Pawlowski Georg,JPX ; Funato Satoru,JPX ; Kinoshita Yoshiaki,JPX ; Yamaguchi Yuko,JPX, Process for preparing resists.
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Okazaki, Hiroshi; Pawlowski, Georg; Funato, Satoru; Kinoshita, Yoshiaki; Yamaguchi, Yuko, Process for preparing resists.
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Hanamura,Masaaki; Nishikawa,Michinori; Kumano,Atsushi, Radiation sensitive refractive index changing composition, pattern forming method and optical material.
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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