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특허 상세정보
Resin composition
| 국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC7판) | G03F-070/38 |
| 미국특허분류(USC) | 430/286.1 ; 525/502 |
| 출원번호 | US-0680551 (1996-07-09) |
| 우선권정보 | JP-0100903 (1994-05-16) |
| 발명자 / 주소 | |
| 출원인 / 주소 | |
| 대리인 / 주소 |
|
| 인용정보 | 피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 0 |
초록
An alkali soluble resin and a resin composition thereof useful as a solder resist, having good adhesive properties, solder heat resistance, and plating resistance are provided. Particular resistance to plating under alkaline conditions is provided by the invention.
대표
청구항
[ What is claimed as new and desired to be secured by Letters Patent of the United States is:] [1.] A resin composition, comprising:A) 1) an alkali soluble polymer having a phenolic hydroxy group and a number average molecular weight in the range of from 300 to 30,000, and 2) a compound having a) two or more polymerizable double bonds and b) an isocyanate group or an epoxy group in its molecule,wherein the ratio of isocyanate or epoxy equivalent of compound 2) to hydroxyl equivalent of compound 1) is in the range of from 0.1 to 0.8; andB), a compound hav...
이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 8
- Takei, Satoshi; Mizusawa, Ken ichi; Sone, Yasuhisa. Composition for forming gap-filling material for lithography. USP2009047517633.
- Setlak Dale R. ; Van Vonno Nicolass W. ; Newton Mike ; Salatino Matthew M.. Fingerprint sensor including an anisotropic dielectric coating and associated methods. USP2000076088471.
- Miyazaki, Akira; Mori, Yasunori; Kubo, Koichi; Kakuta, Haruya. Fingerprint-erasing cured film, method for manufacturing same, display and touch panel using same, and electronic device using these. USP2017109782794.
- Kang, Hoon; Kim, Jae-Sung; Jung, Yang-Ho; Lee, Hi-Kuk; Kameyama, Yasuhiro; Mizuho, Yuuji; Kim, Jong-Cheol; Choi, Se-Jin. Negative photoresist composition and method of manufacturing array substrate using the same. USP2012018092981.
- Chen, Yi Jing; Chou, Nai Tien; Huang, Hsin Yi; Li, Yen-Cheng. Negative-type photoresist composition for thick film and use thereof. USP2015109170491.
- Okazaki Hiroshi,JPX ; Pawlowski Georg,JPX ; Funato Satoru,JPX ; Kinoshita Yoshiaki,JPX ; Yamaguchi Yuko,JPX. Process for preparing resists. USP2001096284427.
- Okazaki, Hiroshi; Pawlowski, Georg; Funato, Satoru; Kinoshita, Yoshiaki; Yamaguchi, Yuko. Process for preparing resists. USP2004026686121.
- Hanamura,Masaaki; Nishikawa,Michinori; Kumano,Atsushi. Radiation sensitive refractive index changing composition, pattern forming method and optical material. USP2008017320854.
