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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0535169 (1996-02-12) |
우선권정보 | EP-0303187 (1993-04-23) |
국제출원번호 | PCT/GB94/008 (1994-04-25) |
§371/§102 date | 19960212 (19960212) |
국제공개번호 | WO-9425152 (1994-11-10) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 0 |
Molecular sieve layers on a support are deposited from a synthesis solution while increasing the solution temperature.
[ I claim:] [1.] A process for the manufacture of a layer comprising a crystalline molecular sieve on a support comprising:a) preparing a synthesis mixture comprising a source of silica and an organic structure-directing agent;b) immersing said support in said synthesis mixture;c) heating said synth
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