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Semiconductor wafer clamp device and method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/50
  • B05C-013/02
출원번호 US-0447904 (1995-05-23)
발명자 / 주소
  • Cox Arthur L.
  • Bell David G.
  • Reinbold Mark S.
출원인 / 주소
  • Advanced Micro Devices, Inc.
대리인 / 주소
    Conley, Rose & Tayon, P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 0

초록

Semiconductor wafer clamp device includes at least one clamp apparatus, the clamp apparatus including a removable clamp finger coupled to a connecting block by a connector. The device allows access to clamp apparatus from a top surface of a substrate holder, eliminating the need to remove the substr

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A semiconductor wafer clamp apparatus, comprising:a removable clamp finger adapted to clamp a semiconductor wafer during use; a connecting block comprising a clamp finger opening, a clamp shaft opening, a finger connector opening, and a shaft connector opening, the clamp

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Boris Govzman ; Konstantin Volodarsky ; Leon Volfovski, Apparatus and methods for handling a substrate.
  2. Berkoh, Daniel K.; Woodard, Elena B.; Scott, Dean G., Apparatus and methods for shielding a plasma etcher electrode.
  3. Zhang, Bing-Jun, Clamp apparatus.
  4. Hans Moritz DE, Device for unilateral etching of a semiconductor wafer.
  5. Kent, Martin; Strang, Eric J., Dry non-plasma treatment system and method of using.
  6. Kent, Martin; Strang, Eric J., Dry non-plasma treatment system and method of using.
  7. Kent, Martin; Strang, Eric J., Dry non-plasma treatment system and method of using.
  8. Yamada Hiroaki,JPX ; Ohta Toshiyuki,JPX, Method of simulating a profile of sputter deposition which covers a contact hole formed on a semiconductor wafer.
  9. Berkoh, Daniel Kwadwo Amponsah; Woodard, Elena Becerra; Scott, Dean G., Methods for etching through-wafer vias in a wafer.
  10. Berkoh, Daniel Kwadwo Amponsah; Woodard, Elena Becerra; Scott, Dean G., Methods for shielding a plasma etcher electrode.
  11. Berkoh, Daniel Kwadwo Amponsah; Woodard, Elena Becerra; Scott, Dean G., Methods of measuring electrical characteristics during plasma etching.
  12. Iimuro, Shunichi, Multi-zone substrate temperature control system and method of operating.
  13. Beckhart,Gordon Haggott; Conarro,Patrick Rooney; Farivar Sadri,Kamran Michael, Semiconductor cassette reducer.
  14. Baumdicker David ; Baumdicker Susan E., Tether clip and method of securing the same.
  15. Hsiung, William; Lo, Shih-Chun; Lin, Tony, Wafer gripper.
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