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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0648541 (1996-05-16) |
우선권정보 | JP-0118271 (1996-04-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 11 |
A semiconductor fabricating apparatus comprises a reaction tube defining a space for heat treating a silicon wafer, heater means disposed to extend around the reaction tube, a load-lock chamber connected to the reaction tube by means of a gate valve, a supply pipe communicating with the load-lock ch
[ What is claimed are:] [1.] A semiconductor fabricating apparatus comprising:a reaction tube defining a space for heat treating a silicon wafer;heater means disposed to extend around said reaction tube;a load-lock chamber connected to said reaction tube by means of a gate valve;a supply pipe for su
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