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Mechanically joined sputtering target and adapter therefor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/34
출원번호 US-0667504 (1996-06-21)
발명자 / 주소
  • Strauss David P.
  • Hunt Thomas J.
  • Gilman Paul S.
출원인 / 주소
  • Materials Research Corporation
대리인 / 주소
    Wood, Herron & Evans, L.L.P.
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 9

초록

A target assembly in which the sputtering material is not soldered or otherwise metallurgically bonded to a backing plate. Rather, the target, which is homogeneously manufactured of sputtering material, is mechanically coupled (e.g., with bolts) to an adapter, which is itself permanently affixed to

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A target assembly removably mountable in an opening in a wall of a vacuum chamber for processing a substrate by causing sputtering material to be ejected from the target assembly onto the substrate, comprising:an adapter having a supporting wall, an outer flange extending

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ), Cathode and target design for a sputter coating apparatus.
  2. Strauss David P. (Glen Rock NJ) Hunt Thomas J. (Peekskill NY) Gilman Paul S. (Suffern NY), Mechanically joined sputtering target and adapter therefor.
  3. Strothers Susan D. (Spokane WA) Delano Robert G. (Valleyford WA) Steed Garold L. (Spokane WA), Method of manufacturing sputtering target assembly.
  4. Belli Robert L. (Columbus OH) Blazic Martin L. (Bexley OH) Eller Rick O. (Orient OH) Fielder Kenneth B. (Circleville OH) Fuchs Conrad E. (Grove City OH), Quick change sputter target assembly.
  5. Fielder Kenneth B. (Columbus OH) Belli Robert L. (Columbus OH) Fuchs Conrad E. (Grove City OH), Quick change sputter target assembly.
  6. Qamar, Sohail S.; Conard, Harry W.; Hamilton, Lowell E., Sputter target design.
  7. Pouliquen Benoit Y. (Spokane WA) Willette Bill (Veradale WA) Delano Robert G. (Valleyford WA) Drinnon Timothy J. (Spokane WA), Sputtering target assembly for a sputter coating apparatus.
  8. Ohta Kenji (Kitakatsuragi JPX) Murakami Yoshiteru (Nishinomiya JPX) Takamori Nobuyuki (Nara JPX) Hijikata Kenichi (Urawa JPX) Shingyoji Takyuki (Urawa JPX) Takaishi Kazushige (Omiya JPX), Target unit.
  9. Mnz Wolf-Dieter (Venlo NLX), Vaporizer for vacuum coating apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Schuhmacher Manfred,DEX ; Sauer Andreas,DEX ; Grundmann Katja,DEX, Device for coating plate-shaped substrates.
  2. Miller, Steven A.; Gaydos, Mark; Shekhter, Leonid N.; Gulsoy, Gokce, Dynamic dehydriding of refractory metal powders.
  3. Miller, Steven A.; Gaydos, Mark; Shekhter, Leonid N.; Gulsoy, Gokce, Dynamic dehydriding of refractory metal powders.
  4. Miller, Steven A.; Kumar, Prabhat; Wu, Richard; Sun, Shuwei; Zimmermann, Stefan; Schmidt-Park, Olaf, Fine grained, non banded, refractory metal sputtering targets with a uniformly random crystallographic orientation, method for making such film, and thin film based devices and products made therefrom.
  5. Dary, Francois-Charles; Gaydos, Mark; Loewenthal, William; Miller, Steven A.; Rozak, Gary; Volchko, Scott Jeffrey; Zimmermann, Stefan; Stawovy, Michael Thomas, Large-area sputtering targets.
  6. Strauss, David P.; Hunt, Thomas J.; Gilman, Paul S., Mechanically joined sputtering target and adapter therefor.
  7. Mustafa Pinarbasi, Method and apparatus for providing deposited layer structures and articles so produced.
  8. Miller, Steven A.; Shekhter, Leonid N.; Zimmermann, Stefan, Methods of joining metallic protective layers.
  9. Miller, Steven A.; Shekhter, Leonid N.; Zimmermann, Stefan, Methods of joining metallic protective layers.
  10. Volchko, Scott Jeffrey; Zimmermann, Stefan; Miller, Steven A.; Stawovy, Michael Thomas, Methods of manufacturing high-strength large-area sputtering targets.
  11. Loewenthal, William; Miller, Steven Alfred, Methods of manufacturing large-area sputtering targets.
  12. Miller, Steven A.; Dary, Francois-Charles; Gaydos, Mark; Rozak, Gary, Methods of manufacturing large-area sputtering targets by cold spray.
  13. Volchko, Scott Jeffrey; Loewenthal, William; Zimmermann, Stefan; Gaydos, Mark; Miller, Steven Alfred, Methods of manufacturing large-area sputtering targets using interlocking joints.
  14. Volchko, Scott Jeffrey; Loewenthal, William; Zimmermann, Stefan; Gaydos, Mark; Miller, Steven Alfred, Methods of manufacturing large-area sputtering targets using interlocking joints.
  15. Miller, Steven A.; Kumar, Prabhat; Wu, Rong-chein Richard; Sun, Shuwei; Zimmermann, Stefan; Schmidt-Park, Olaf, Methods of rejuvenating sputtering targets.
  16. Shekhter, Leonid N.; Miller, Steven A.; Haywiser, Leah F.; Wu, Rong-Chein R., Process for preparing metal powders having low oxygen content, powders so-produced and uses thereof.
  17. Lawson,John; Irwin,Dale; Chervenak,Steve; McIntee,John, Sputtering cathode adapter assembly and method.
  18. West, Brian T.; Cox, Michael S.; Oh, Jeonghoon, Sputtering target with backside cooling grooves.
  19. Hawk Homer J. ; Setele Thomas ; Brookhart Craig, Tire testing apparatus and method.
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