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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0347416 (1994-12-02) |
우선권정보 | JP-0172857 (1993-07-13) |
국제출원번호 | PCT/JP94/005 (1994-04-05) |
§371/§102 date | 19941202 (19941202) |
국제공개번호 | WO-9423445 (1994-10-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 3 |
Utilizing rugged pattern of atomic size present on a crystalline substrate of a semiconductor such as silicon or selenium or the like, a microstructure body is produced on the substrate by forming a layer of a first element of one monolayer or less by arranging at the position of the substrate most
[ We claim:] [1.] A method for making a microstructure body on a substrate which comprises forming a layer of a first element, thinner than one monolayer, by arranging the first element at a rugged position of the substrate, then forming a layer of at least one second element on a part of the substr
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