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특허 상세정보

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Retractable probe system with in situ fabrication environment process parameter sensing

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) C23C-016/00   
미국특허분류(USC) 118/723MW ; 156/627.1 ; 216/059
출원번호 US-0252817 (1994-06-02)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
대리인 / 주소
    Brady, III
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 7
초록
▼

A retractable probe system (12) senses in situ a plurality of predetermined process parameters of a wafer (24) fabrication environment (16) and includes a sensing device (47) for sensing the predetermined process parameters, a probe arm (46) for holding sensing device (47) and having sufficient length to extend sensing device (47) into a predetermined location of the fabrication environment (16). A housing (36) receives the sensing device (47) and probe arm (46). A locator mechanism (52, 42, and 44) controllably locates sensing device 47) and probe arm (...

대표
청구항
▼

[ What is claimed is:] [1.] A retractable probe for sensing in situ at predetermined process parameters of a semiconductor device fabrication environment, comprising:a sensor for sensing a predetermined process parameters in situ;an arm for holding said sensor and having sufficient length to extend said sensor into a predetermined location of the fabrication environment;a housing for receiving said sensor and said probe arm;an actuator mechanism for controllably locating said sensor and said probe arm within said fabrication environment and within said h...

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Taillet Joseph (Boulogne FRX). Device for chemical dry etching of integrated circuits. USP1982024316791.
  2. Mase Yasukazu (Tokyo JPX) Abe Masahiro (Yokohama JPX) Hirata Osamu (Kawasaki JPX). Method of determining end of cleaning of semiconductor manufacturing apparatus. USP1992125169407.
  3. Zarowin Charles B. (Rowayton CT). Optical figuring by plasma assisted chemical transport and etching apparatus therefor. USP1987054668366.
  4. Moslehi Mehrdad M. (Dallas TX). Plasma density controller for semiconductor device processing equipment. USP1992015082517.
  5. Hall Bernard J. (San Francisco CA). Plasma etching method and apparatus. USP1992125167748.
  6. Anderson Richard L. (Austin TX). Pneumatic energy fluxmeter. USP1992105159267.
  7. Kuwabara Hideshi (Zama JPX). Semiconductor device manufacturing apparatus. USP1995075433813.

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 6

  1. Aulbers,Anton; Flendrig,Leonard Marcus; Nieuwkoop,Evert; Reinhoudt,Hank Robert; Volanschi,Alexandru; Van Der Werff,Johannes. Device for monitoring a wash process. USP2006127150284.
  2. Aulbers,Antonius Paulus; Flendrig,Leonard Marcus; Nieuwkoop,Evert; Reinhoudt,Hank Robert; Volanschi,Alexandru; Van Der Werff,Johannes Jeichienus. Device for monitoring a wash process. USP2008017322370.
  3. Tottewitz, Michael; Caderas, Daniel. Immersion tube for a measuring probe. USP2010107806009.
  4. Toprac, Anthony J.. Method and apparatus for control for semiconductor processing for reducing effects of environmental effects. USP2003056560506.
  5. Yuasa, Mitsuhiro. Process monitoring apparatus and method for monitoring process. USP2011088010228.
  6. Caderas,Daniel. Rinsing device for a sensor probe. USP2008027325555.

IPC 상위 출원인