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Tunneling sensor with linear force rebalance and method for fabricating the same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01P-015/00
출원번호 US-0694333 (1996-08-08)
발명자 / 주소
  • Bernstein Jonathan J.
출원인 / 주소
  • The Charles Stark Draper Laboratory, Inc.
대리인 / 주소
    Weingarten, Schurgin, Gagnebin & Hayes LLP
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 0

초록

A tunneling sensor is disclosed having a pair of force rebalance capacitors that are used in a push-pull relationship so as to provide a rebalance force that is a linear function of applied rebalance voltages, which leads to an output voltage that is linearly related to input acceleration. The tunne

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A tunneling sensor with linear force rebalance, said tunneling sensor comprising:a substrate having an opening therein;a plate electrode disposed within said opening of said substrate and attached to said substrate via a pair of flexures disposed on opposite sides of said

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Dimeo, Jr., Frank; Chen, Philip S. H.; Neuner, Jeffrey W.; Welch, James; Stawasz, Michele; Baum, Thomas H.; King, Mackenzie E.; Chen, Ing-Shin; Roeder, Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  2. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawacz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  3. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawasz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  4. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawasz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  5. Chen,Philip S. H.; Chen,Ing Shin; Dimeo, Jr.,Frank; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing target gas species in semiconductor processing systems.
  6. Kubena, Randy L.; Kirby, Deborah J., Dynamic damping in a quartz oscillator.
  7. Johnson,Burgess R., Force rebalancing for MEMS inertial sensors using time-varying voltages.
  8. Hulsing, II, Rand H.; Sprague, Randy, Force-sensing transducers, accelerometers, rate sensors, methods of forming force-sensing transducers, and methods of forming vibrating-beam force transducers.
  9. Rand H. Hulsing, II ; Randy Sprague, Force-sensing transducers, accelerometers, rate sensors, methods of forming force-sensing transducers, and methods of forming vibrating-beam force transducers.
  10. Hulsing ; II Rand H. ; Sprague Randy, Low metalization creep sensor.
  11. Rand H. Hulsing, II ; Randy Sprague, Low metalization creep sensor.
  12. Buchan Nicholas,DEX ; Muenzel Horst,DEX ; Laermer Franz,DEX ; Offenberg Michael,DEX ; Bischof Udo,DEX ; Lutz Markus,DEX, Method for manufacturing a rate-of-rotation sensor.
  13. Pedersen,Michael, Miniature acoustic detector based on electron surface tunneling.
  14. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Chen,Ing Shin; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James, Nickel-coated free-standing silicon carbide structure for sensing fluoro or halogen species in semiconductor processing systems, and processes of making and using same.
  15. Kubena, Randall L.; Yong, Yook-Kong, Piezoelectric resonator with capacitive sense and/or force rebalance electrodes to control an amplitude of vibration.
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