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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0748922 (1996-11-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 20 인용 특허 : 0 |
This invention pertains generally to aging methods suited to aerogel thin film fabrication, and particularly to techniques for improving gel strength and/or aerogel dielectric constant by a rapid aging technique, which avoid damage or premature drying of wet gel thin films during aging. A substrate
[ What is claimed is:] [1.] A method of forming a porous dielectric or a semiconductor substrate, said method comprising the steps of:providing a semiconductor substrate having a wet gel thin film deposited thereon, said wet gel thin film having a pore liquid comprising a low boiling point liquid; r
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