[특허]Gas feeding device for controlled vaporization of an organometallic compound used in deposition film formation

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Gas feeding device for controlled vaporization of an organometallic compound used in deposition film formation 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-016/54
출원번호	US-0439459 (1995-05-11)
우선권정보	JP-0250026 (1989-09-26)
발명자 / 주소	Mikoshiba Nobuo,JPX Tsubouchi Kazuo,JPX Masu Kazuya,JPX
출원인 / 주소	Canon Kabushiki Kaisha, JPX
대리인 / 주소	Fitzpatrick, Cella, Harper & Scinto
인용정보	피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 0

초록 ▼

A gas-feeding device for feeding a starting gas for forming a deposited film by the chemical vapor deposition method, comprising a storage area for an organometallic compound having a high viscosity, wherein the storage area has a space for discharging a starting gas containing the organometallic compound by introducing a carrier gas into the storage area. The carrier gas is introduced into the organometallic gas via a gas-introducing member having a number of openings. An ultrasonic oscillator is provided in the storage area to generate cavitation in the organometallic compound. A deposited-film forming apparatus incorporating the gas-feeding device is also described.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A gas-feeding device for feeding a starting gas used to form a deposited film by the chemical vapor deposition method, comprising:an organometallic compound stored in an organometallic compound storing means, wherein said organometallic compound comprises dimethyl aluminum hydride;a gas-introducing member arranged along a bottom of the storing means and having a plurality of openings for introducing a carrier gas into the organometallic compound stored in the storing means to form bubbles in the organometallic compound and thereby create a starting gas comprising the carrier gas and the organometallic compound;one or more ultrasonic oscillators arranged at a position lower than that of the gas-introducing member to generate cavitation in the organometallic compound stored in the storing means; anda space in said storing means to receive said starting gas, said space being formed between a surface of the organometallic compound stored in the storing means, wherein said surface is not in contact with the storing means and an inner wall of the storing means, wherein said inner wall is parallel to said surface.

이 특허를 인용한 특허 (10)

Tran, Nam Hung; Deavenport, Dennis L.; Ko, Taeho; El-Zein, Nada, Bubbler for constant vapor delivery of a solid chemical.
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Cunning, Hugh; Williams, Graham; Odedra, Rajesh; Kanjolia, Ravi, Bubbler for the transportation of substances by a carrier gas.
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Sakata, Yoichi; Yanagita, Kazutaka; Nakagawa, Toshiyuki; Nakamoto, Naoyuki, Bubbling supply system for stable precursor supply.
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Shenai-Khatkhate, Deodatta Vinayak; Timmons, Michael L.; Marsman, Charles J.; Woelk, Egbert; DiCarlo, Jr., Ronald L., Delivery device.
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Woelk, Egbert; DiCarlo, Ronald L.; Shenai-Khatkhate, Deodatta Vinayak, Delivery device, methods of manufacture thereof and articles comprising the same.
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Shenai Khatkhate,Deodatta Vinayak; Power,Michael Brendan, Method of depositing a metal-containing film.
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Woelk,Egbert; Shenai Khatkhate,Deodatta Vinayak, Method of depositing germanium-containing films.
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Shenai-Khatkhate, Deodatta Vinayak; Power, Michael Brendan, Organometallic compounds.
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Shenai Khatkhate,Deodatta Vinayak, Preparation of group IVA and group VIA compounds.
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Kanjolia, Ravi; Platts, Chris; Nguyen, Nam; Wilkinson, Mark, Solid precursor delivery assemblies and related methods.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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