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Methods for detecting inhomogeneities, specifically, striae, infused silica glasses 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01L-001/24
  • G01B-011/00
  • G06G-007/12
출원번호 US-0710093 (1996-09-11)
발명자 / 주소
  • Fladd David R.
  • Rieks Stephen J.
출원인 / 주소
  • Corning Incorporated
대리인 / 주소
    Klee
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 6

초록

A process for detecting inhomogeneities, specifically, striae in a sample of fused silica glass is provided which includes the steps of: preparing a digitized phase plot for the sample using an interferometer which produces a beam of light which passes through the sample; applying a high pass filter

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A method for testing a transparent body for the presence of striae comprising the steps of:(a) preparing a digitized phase plot for the transparent body using an interferometer, wherein:(i) the interferometer produces a beam of light which passes through the transparent b

이 특허에 인용된 특허 (6)

  1. Hart Robert P. (East Hampton CT) Malinin Leonid M. (Cambridge MA), Apparatus and method for calibrating manifolded tanks.
  2. Hara Elmer H. (Ottawa CAX), Clear air turbulence detector.
  3. Ryan Fredrick M. (P.O. Box 406 New Alexandria PA 15670) Gottlieb Milton S. (2310 Marbury Rd. Pittsburgh PA 15221), Method and arrangement for measuring the optical absorptions of gaseous mixtures.
  4. Tronolone Mark J. (Fairport NY) Fleig Jon F. (Rochester NY) Huang Chunsheng (San Jose CA) Bruning John H. (Pittsford NY), Method of testing aspherical optical surfaces with an interferometer.
  5. Schultz John C. (Afton MN), Positioning skew compensation for imaging system using photoconductive material.
  6. Cohen Donald K. (Tucson AZ) Caber Paul J. (Tucson AZ) Brophy Chris P. (White Bear Township ; Ramsey County MN), Rough surface profiler and method.

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Curtis, Michael G., Facilitating discussion group formation and interaction.
  2. Curtis, Michael G., Facilitating discussion group formation and interaction.
  3. Pandelisev, Kiril A., Hot substrate deposition of fused silica.
  4. Gahagan,Kevin T.; Hiltner,Jason F., Inspection of transparent substrates for defects.
  5. Gahagan,Kevin T.; Hiltner,Jason F., Inspection of transparent substrates for defects.
  6. Gerhard, Michael; Lentes, Frank-Thomas; Kusch, Christian; Singer, Wolfgang; Moersen, Ewald, Method and apparatus for analysis of schlieren.
  7. Raymond, Thomas Daniel; Hamrick, Daniel Richard; Neal, Daniel Ralph, Method of high pass filtering a data set.
  8. Smith, Brent Russell; Killalea, Tom, Organizing collaborative annotations.
  9. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Yu, Charles Chunzhe, Projection lithography photomask blanks, preforms and method of making.
  10. Berkey George Edward ; Moore Lisa Anne ; Yu Charles Chunzhe, Projection lithography photomask blanks, preforms and methods of making.
  11. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Pierson, Michelle Diane, Projection lithography photomasks and method of making.
  12. Berkey, George Edward; Moore, Lisa Anne; Pierson, Michelle Diane, Projection lithography photomasks and method of making.
  13. Berkey George Edward ; Moore Lisa Anne ; Pierson Michelle Diane, Projection lithography photomasks and methods of making.
  14. Smith, Brent Russell; Killalea, Tom, Providing presence information within digital items.
  15. Dewa, Paul Gerard; Dunn, Thomas James; Grejda, Robert Dennis; Lee, Christopher Alan, Skewed sectional measurement of striated glass.
  16. Freeman, James F.; Williams, Roy E., System to automatically detect eye corneal striae.
  17. Lynnes, Brett N.; Gayles, Edward J., Tagging annotations of electronic books.
  18. Lisa A. Moore ; Charlene Smith, Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
  19. Moore Lisa A. ; Smith Charlene, Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
  20. Moore, Lisa A.; Smith, Charlene M., Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
  21. Moore, Lisa A.; Smith, Charlene M., Vacuum ultraviolet trasmitting silicon oxyfluoride lithography glass.
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