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Wafer cassette cleaning using carbon dioxide jet spray 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24C-003/00
출원번호 US-0816745 (1996-10-04)
발명자 / 주소
  • Bowers Charles W.
출원인 / 주소
  • Eco-Snow Systems, Inc.
대리인 / 주소
    Armstrong
인용정보 피인용 횟수 : 29  인용 특허 : 0

초록

Apparatus for cleaning a wafer carrying cassette. The cassette is fabricated as open top box having closed sides and a plurality of grooves formed in its interior that each hold a wafer. The apparatus includes an enclosure having an entry and an exit, and a conveyor is provided for transporting the

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] Wafer cassette cleaning apparatus for cleaning a wafer carrying cassette fabricated as open top box having closed sides and a plurality of grooves formed in its interior that each hold a wafer, said apparatus comprising:an enclosure having an entry and an exit;means for t

이 특허를 인용한 특허 (29)

  1. Brandt Werner V. ; Bowers Charles W., Apparatus for cleaning and testing precision components of hard drives and the like.
  2. Lewis, Paul E.; Ahmadi, Goodarz; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid; Compton, Keith H., Apparatus for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  3. Jackson,David P., Apparatus to treat and inspect a substrate.
  4. Jackson,David P., Carbon dioxide snow apparatus.
  5. Banerjee, Souvik; Chung, Harlan Forrest, Liquid-assisted cryogenic cleaning.
  6. Banerjee,Souvik; Chung,Harlan Forrest, Liquid-assisted cryogenic cleaning.
  7. Jackson, David P., Method and apparatus for creating an open cell micro-environment for treating a substrate with an impingement spray.
  8. Yamamoto,Ryoichi, Method and apparatus for manufacturing liquid drop ejecting head.
  9. Neese Edward D. ; Kullen Peter S. ; Valentine Eugene, Method and apparatus for removing coatings and oxides from substrates.
  10. Charles W. Bowers, Method for selective metal film layer removal using carbon dioxide jet spray.
  11. Jackson, David P., Method of forming cryogenic fluid composition.
  12. Ahmadi, Goodarz; Lewis, Paul E.; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid; Compton, Keith H., Methods for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  13. Ahmadi, Goodarz; Lewis, Paul E.; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid, Methods for cleaning utilizing multi-stage filtered carbon dioxide.
  14. Boumerzoug,Mohamed; Tannous,Adel George, Methods for residue removal and corrosion prevention in a post-metal etch process.
  15. Boumerzoug, Mohamed; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid, Methods for resist stripping and cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  16. Boumerzoug,Mohamed; Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  17. Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  18. Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  19. Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  20. Bowers Charles W., Photoresist and redeposition removal using carbon dioxide jet spray.
  21. Noriaki Yoshikawa JP; Tadashi Yotsumoto JP; Terumi Muguruma JP; Yoshitaka Hasegawa JP; Yuichi Kuroda JP, Pod and method of cleaning it.
  22. Yoshikawa Noriaki,JPX ; Yotsumoto Tadashi,JPX ; Muguruma Terumi,JPX ; Hasegawa Yoshitaka,JPX ; Kuroda Yuichi,JPX, Pod and method of cleaning it.
  23. Haerle, Andrew G.; Meder, Gerald S., Process for cleaning ceramic articles.
  24. John Michael Cotte ; Dario L. Goldfarb ; Kenneth John McCullough ; Wayne Martin Moreau ; Keith R. Pope ; John P. Simons ; Charles J. Taft, Process of cleaning semiconductor processing, handling and manufacturing equipment.
  25. Pei, Shao-Kai, Sandblasting apparatus.
  26. Pei, Shao-Kai, Sandblasting apparatus.
  27. Pei, Shao-Kai, Sandblasting apparatus and method for shaping product with same.
  28. Vaupel, Mathias; Bernrieder, Sebastian; Koller, Adolf; Martens, Stefan, Separation of semiconductor devices from a wafer carrier.
  29. Martens, Stefan; Vaupel, Mathias, Testing process for semiconductor devices.
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