$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Method and apparatus for reclaiming used working fluid 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-017/12
출원번호 US-0600954 (1996-03-15)
우선권정보 JP-0011762 (1995-01-27)
국제출원번호 PCT/JP95/012 (1995-06-20)
§371/§102 date 19960315 (19960315)
국제공개번호 WO-9535261 (1995-12-28)
발명자 / 주소
  • Yorita Hiroshi,JPX
  • Yoshikawa Takashi,JPX
출원인 / 주소
  • Noritake Co., Limited, JPX
대리인 / 주소
    Oliff & Berridge P.L.C.
인용정보 피인용 횟수 : 23  인용 특허 : 0

초록

A working fluid containing dispersed abrasive grains is used in abrasive machining, and a used working fluid contaminated with cutting chips or swarf produced during the abrasive machining is processed by first filter device, so that the abrasive grains in the used working fluid is recovered in the

대표청구항

[ We claim:] [1.] A method of reclaiming a used working fluid produced after a working fluid which contains abrasive grains dispersed therein is used for abrasive machining on a workpiece, wherein cutting chips produced during said abrasive machining are removed from said used working fluid, said me

이 특허를 인용한 특허 (23)

  1. Nagai, Yuuki; Maezawa, Akihiro; Takahashi, Atsushi, Abrasive regeneration method.
  2. Gary L. Corlett ; Edward T. Ferri, Jr. ; J. Tobin Geatz, Apparatus and process for separation and recovery of liquid and slurry abrasives used for polishing.
  3. Gary L. Corlett ; Edward T. Ferri, Jr. ; J. Tobin Geatz, Apparatus for separation and recovery of liquid and slurry abrasives used for polishing.
  4. Collins, Raymond M.; Gallagher, Gina R.; Gobbi, Gian C.; Robinson, Jr., Donald G., Classified catalyst composition, apparatus, and method.
  5. Lutze, Konstantin; Collasius, Michael; Friederichs, Ulf, Device for filtering and removing fluids.
  6. Jensen, Marina B., Dual porosity filter.
  7. Komatsu Mitsunori,JPX ; Kawashima Kiyotaka,JPX ; Tanikawa Mutsumi,JPX, Filter apparatus.
  8. Morris, Samuel J; Zamora Morris, Glenna V, Fluid lubricant and material shavings recapture system for a cutting operation.
  9. Uto, Mitsuyoshi; Kondo, Nobuki, Grinding slurry recycling apparatus.
  10. Ishihara, Mitsuyoshi, Machine tool with cutting fluid filtration device.
  11. Jacobson Ronald F. ; Mendez Ruben D., Media assist gaseous nitrogen distribution system for deflashing machine.
  12. Hammer, Jurgen; Richter, Andre; Kraus, Werner; Petermann, Heinz-Dieter, Method and an apparatus for treating wastewater from a chemical-mechanical polishing process used in chip fabrication.
  13. Osuda,Hiroshi; Matoba,Toru; Fukuizumi,Masataka, Method and apparatus for reuse of abrasive fluid used in the manufacture of semiconductors.
  14. Dalitz, Lothar; Berndt, Rolf, Method and system for manufacturing wafer-like slices from a substrate material.
  15. Naoe,Koji, Method for manufacturing magnetic recording medium.
  16. Abe, Mitsugu; Iiyama, Masamitsu, Method for recovering a used slurry.
  17. Berndt, Rolf; Ruth, Jochen, Method for treating spent abrasive slurry.
  18. Tsuihiji, Motoyuki; Iinuma, Hirofumi, Method of fabricating a semiconductor device.
  19. Tsuihiji, Motoyuki; Iinuma, Hirofumi, Method of fabricating a semiconductor device.
  20. Pancaldi, Fabio; Gallocchio, Vanni, Plant and method for the treatment of the recovery cooling fluid in mechanical processing plants.
  21. Wiesner Peter,DEX, Process for reclaiming a suspension.
  22. Brummer, Franz, Recycling method and device for recycling waste water containing slurry from a semi-conductor treatment process, in particular from a chemico-mechanical polishing process.
  23. Korf, Philipp; Pettersch, Michael; Schwendele, Josef; Jung, Darius; Korz, Juergen; Mutschler, Bernhard; Sachs, Dimitri, System and method for treating contaminated wastewater.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로