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Methods of making Cr-Me sputter targets and targets produced thereby 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B22F-001/00
  • B22F-003/14
출원번호 US-0550256 (1995-10-30)
발명자 / 주소
  • Ivanov Eugene Y.
출원인 / 주소
  • Tosoh SMD, Inc.
대리인 / 주소
    Biebel & French
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 21

초록

Methods for making Cr-Me sputter targets wherein Me is a metal are disclosed. Preferably Me is a transition metal and most preferably is a member selected from the group consisting of Cu, Fe, and V. As a first step in the method, Cr and Me powder or crystals on the order of less than 100 mesh are pr

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A method for making a Cr-Me containing sputter target comprising:(a) providing a blend including Cr powder of less than 100 mesh and Me powder of less than 100 mesh wherein Me is a metal;(b) mechanically alloying said blend of particles;(c) subjecting said mechanically al

이 특허에 인용된 특허 (21)

  1. Belkind Abraham I. (North Plain Field NJ) Wamboldt Leonard (Huntington MA) Wolfe Jesse D. (San Ramon CA), Device and method for depositing metal oxide films.
  2. Lin, Yeong S.; Ballard, Nathan T.; Lee, John T.; Teng, Edward F., Disc media.
  3. Saita Yoshiaki (Tokyo JPX) Sanbongi Norimitsu (Tokyo JPX) Sato Yoshinori (Tokyo JPX), Driving method of heat generating resistor in heat recording device.
  4. Rust Ray D. (Berkeley Heights NJ), Hollow cathode type magnetron apparatus construction.
  5. Howard James K. (Morgan Hill CA), Magnetic recording medium with a chromium alloy underlayer and a cobalt-based magnetic layer.
  6. Ahlert Richard H. (San Jose CA) Howard James K. (Morgan Hill CA) Lim Grace S. (San Jose CA), Magnetic recording medium with an underlayer and a cobalt-based magnetic layer.
  7. Nayar ; Harbhajan S., Manufacture of plates by powder-metallurgy.
  8. Saita Yoshiaki (Tokyo JPX) Kuwahara Seiji (Tokyo JPX) Sato Yoshinori (Tokyo JPX), Method and apparatus for thermally recording data utilizing metallic/non-metallic phase transition in a recording medium.
  9. Lannutti Susan M. (Columbus OH) Wickersham ; Jr. Charles E. (Columbus OH), Method of bonding a titanium containing sputter target to a backing plate and bonded target/backing plate assemblies pro.
  10. Stellrecht David E. (Columbus OH), Method of welding sputtering target/backing plate assemblies.
  11. Kinoshita Makoto (Sanda JPX) Tamura Jun (Sanda JPX) Morikawa Masaki (Sanda JPX) Kishida Kunio (Tokyo JPX) Ishii Toshinori (Sanda JPX) Mishima Akifumi (Sanda JPX), Platinum-cobalt alloy sputtering target and method for manufacturing same.
  12. Parent Edward D. (Hamilton MA) Purinton Charles S. (Byfield MA) Sutter Charles W. (Spanaway WA), Refractory metal silicide sputtering target.
  13. Parent Edward D. (Hamilton MA) Purinton Charles S. (Byfield MA) Sutter Charles W. (Spanaway WA), Refractory metal silicide sputtering target.
  14. Fukasawa Yoshiharu (Yokohama JPX) Kawai Mituo (Yokohama JPX) Ishihara Hideo (Yokohama JPX) Umeki Takenori (Yokohama JPX) Oana Yasuhisa (Yokohama JPX), Sputtering alloy target and method of producing an alloy film.
  15. Wright Robert J. (Tequesta FL) Hecht Ralph J. (West Palm Beach FL) Fenton Richard J. (Palm Beach Shores FL), Sputtering target fabrication method.
  16. Taniguchi Shigeru (Yasugi JPX) Kawakami Akira (Matsue JPX) Murata Hideo (Matsue JPX), Sputtering target for magnetic recording medium and method of producing the same.
  17. Helderman Earl R. (Hillsboro OR) Zimmerman Robert R. (Beaverton OR), Sputtering targets with low mobile ion contamination.
  18. Baseman Robert J. (Brewster NY) Jahnes Christopher V. (Monsey NY) Khandros Igor Y. (Peekskill NY) Mirzamaani Seyyed M. T. (Croton-on-Hudson NY) Russak Michael A. (Brewster NY), Thin film magnetic medium with controlled grain morphology and topology for improved performance.
  19. Aine Harry E. (1804 Stierlin Rd. Mountain View CA 94040), Thin film magnetic recording medium.
  20. Aine Harry E. (1804 Stierlin Rd. Mountain View CA 94040), Thin film recording and method of making.
  21. Robinson Clifford J. (San Jose CA), Vertical magnetic recording media with multilayered magnetic film structure.

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Zhang, Wenjun, Fabrication of B/C/N/O/Si doped sputtering targets.
  2. Zhang,Wenjun, Fabrication of B/C/N/O/Si doped sputtering targets.
  3. Lo Chi-Fung, High performance Cu/Cr sputter targets for semiconductor application.
  4. Sandlin, Michael; Kunkel, Bernd; Zhang, Willy; Corno, Phillip, Mechanically alloyed precious metal magnetic sputtering targets fabricated using rapidly solidfied alloy powders and elemental Pt metal.
  5. Sandlin,Michael; Kunkel,Bernd; Zhang,Willy; Corno,Phillip, Mechanically alloyed precious metal magnetic sputtering targets fabricated using rapidly solidified alloy powders and elemental Pt metal.
  6. Zhang,Wenjun, Sputter target and method for fabricating sputter target including a plurality of materials.
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