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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0709053 (1996-09-06) |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 38 인용 특허 : 64 |
A non-corrosive cleaning composition for removing plasma etching residues having a pH from 2 to 6 and comprising: (A) water; (B) at least one selected hydroxylammonium compound; and (C) at least one basic compound; and optionally (D) a chelating stabilizer; and optionally (E) a surfactant.
[ What is claimed is:] [1.] A cleaning composition useful for removing residues formed during plasma etching and having a pH from 2 to 6 and comprising in effective amounts:(A) water;(B) at least one acidic hydroxylammonium compound selected from the group consisting of hydroxylammonium salts of the
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