[특허]Process for metals removal using beta-diketone or beta-ketoimine ligand forming compounds

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Process for metals removal using beta-diketone or beta-ketoimine ligand forming compounds 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B08B-007/00
출원번호	US-0584179 (1996-01-11)
발명자 / 주소	Butterbaugh Jeffery W. Gray David C.
출원인 / 주소	FSI International
대리인 / 주소	Vidas, Arrett & Steinkraus, P.A.
인용정보	피인용 횟수 : 18 인용 특허 : 18

초록 ▼

UV irradiation enhances oxidation of metal and/or formation of sublimable ligand compounds using beta-diketone or beta-ketoimine ligand forming compounds. A UV/halogen gas or UV/ozone treatment can be used to efficiently oxidize the metallic material to a suitable form for reaction with the ligand forming compound and UV irradiation can be used during exposure to the ligand forming compound to enhance the formation of sublimable ligand compounds. Oxidization and ligand compound formation can be run sequentially or simultaneously. The process can be used for bulk metals removal, metal film patterning or trace metals removal.

대표청구항 ▼

[ What is claimed is:] [1.] A method of removing an oxidized metallic material from a portion of the surface of a substrate, the method comprising irradiating the substrate surface portion with ultraviolet light and simultaneously exposing the substrate surface portion to a gaseous environment comprising a ligand forming compound selected from the group consisting of beta-diketone and beta-ketoimine ligand forming compounds so as to form a metal-ligand compound and volatilizing said metal-ligand compound.

이 특허에 인용된 특허 (18)

Norman John A. T. (Whitehall PA) Ivankovits John C. (Northampton PA) Roberts David A. (Carlsbad CA) Bohling David A. (Emmaus PA), Cleaning agents comprising beta-diketone and beta-ketoimine ligands and a process for using the same.
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Bohling David A. (Emmaus PA) Ivankovits John C. (Allentown PA) Roberts David A. (Carlsbad CA), Cleaning agents for fabricating integrated circuits and a process for using the same.
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Grant Robert W. (Excelsior MN) Novak Richard E. (Plymouth MN), Cluster tool dry cleaning system.
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Jackson David P. (Saugus CA), Dense phase gas photochemical process for substrate treatment.
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Roberts David A. (Carlsbad CA) Ivankovits John C. (Northampton PA) Norman John A. T. (Whitehall PA) Bohling David A. (Emmaus PA), Etching agents comprising bb 상세보기

Yamazaki Shunpei (Tokyo JPX), Etching method for the manufacture of a semiconductor integrated circuit.

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Cook Joel M. (Union Township ; Hunterdon County NJ) Donnelly Vincent M. (Berkeley Heights NJ) Flamm Daniel L. (Chatham Township ; Morris County NJ) Ibbotson Dale E. (Westfield NJ) Mucha John A. (Madi, Etching techniques.

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George Mark A. (Allentown PA) Bohling David A. (Emmaus PA), Gas phase cleaning agents for removing metal containing contaminants from integrated circuit assemblies and a process fo.

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Ivankovits John C. (Allentown PA) Bohling David A. (Emmaus PA) Roberts David A. (Carlsbad CA), Halogenated carboxylic acid cleaning agents for fabricating integrated circuits and a process for using the same.

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Fukuda Hisashi (Tokyo JPX), Method and device for cleaning substrates.

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이 특허를 인용한 특허 (18)

Gao, David; Mieno, Fumitake, Application of millisecond heating source for surface treatment.
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Lei, Xinjian; Spence, Daniel P., Metal complexes for metal-containing film deposition.
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Chino Hiroshi,JPX ; Suzuki Setsu,JPX ; Matsumoto Hideya,JPX ; Ohgawara Shoji,JPX, Method of cleaning surface of substrate and method of manufacturing semiconductor device.
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Gao, David; Mieno, Fumitake, Method of rapid thermal treatment using high energy electromagnetic radiation of a semiconductor substrate for formation of epitaxial materials.
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Millward, Dan, Methods of forming dispersions of nanoparticles, and methods of forming flash memory cells.
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Lei, Xinjian; Spence, Daniel P., Multidentate ketoimine ligands for metal complexes.
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Ricci, Giovanni; Sommazzi, Anna; Leone, Giuseppe; Boglia, Aldo; Masi, Francesco, Oxo-nitrogenated complex of lanthanides, catalytic system comprising said oxo-nitrogenated complex and process for the (co)polymerization of conjugated dienes.
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Sandhu, Gurtej S.; Westmoreland, Donald L., Plasmaless dry contact cleaning method using interhalogen compounds.
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Fritsch, Elke; Dehm, Christine; Wendt, Hermann; Weinrich, Volker, Process for cleaning CVD units.
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Siefering Kevin L. ; Seppanen Timothy V., Processing apparatus for microelectronic devices in which polymeric bellows are used to help accomplish substrate transport inside of the apparatus.
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Secord, Tyrone, Recliner clutch mechanism for vehicle seat.
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Geusic, Joseph E.; Reinberg, Alan R., Removal of copper oxides from integrated interconnects.
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Anthis, Jeffrey W.; Thompson, David; Schmiege, Benjamin, Selective dry etching of metal films comprising multiple metal oxides.
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Chen, Tsung-Liang; Schmiege, Benjamin; Anthis, Jeffrey W.; Gilchrist, Glen, System and method for controllable non-volatile metal removal.
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Chen, Tsung-Liang; Schmiege, Benjamin; Anthis, Jeffrey W.; Gilchrist, Glen, System and method for controllable non-volatile metal removal.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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