[특허]Position resolution of an interferometrially controlled moving stage by regression analysis

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Position resolution of an interferometrially controlled moving stage by regression analysis 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G01B-009/02
출원번호	US-0626863 (1996-04-03)
발명자 / 주소	Sogard Michael R.
출원인 / 주소	Nikon Corporation, JPX
대리인 / 주소	Skjerven, Morrill, MacPherson, Franklin and Friel LLPHalbert
인용정보	피인용 횟수 : 18 인용 특허 : 2

초록 ▼

A method and apparatus for achieving high position resolution of a moving stage in a lithographic system utilized for the manufacture of semiconductor integrated circuits. A series of values of the stage position are measured using an interferometric system, and a present position of the stage is estimated using regression analysis applied to a selected number of the series of measured values. The resulting predicted position is of higher resolution than a single stage position measurement of the interferometric system.

대표청구항 ▼

[ What I claim is:] [1.] A method of achieving high position resolution in a precision motion system having at least one moving stage, comprising the steps of:measuring a series of positions of said at least one moving stage; andestimating a present position of said at least one moving stage using a

이 특허에 인용된 특허 (2)

Kurosawa Hiroshi (Atsugi JPX) Uda Koji (Yokohama JPX) Ozawa Kunitaka (Isehara JPX) Uzawa Shunichi (Tokyo JPX) Mizusawa Nobutoshi (Yamato JPX) Suda Shigeyuki (Yokohama JPX) Nose Noriyuki (Tokyo JPX) K, Exposure apparatus.
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Boles, Sol, Range/azimuth/elevation ship imaging for ordnance control.
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이 특허를 인용한 특허 (18)

Tanimoto, Sayaka; Yamanashi, Hiromasa; Fukuda, Muneyuki; Sohda, Yasunari, Charged particle beam apparatus and pattern measuring method.
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Wiesner, John C., Charged particle beam deflection method with separate stage tracking and stage positional error signals.
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Sekiguchi Hiroyuki,JPX, Exposure apparatus with setting of stage driving in accordance with type of motion of stage and device manufacturing method.
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Bita, Ion; Hong, John H.; Alam, Khurshid S., Light-based sealing and device packaging.
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Flitsch, Frederick A., Method and apparatus for a high resolution imaging system.
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Flitsch, Frederick A., Method and apparatus for an electromagnetic emission based imaging system.
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Flitsch, Frederick A., Method and apparatus for an imaging system.
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Palmateer, Lauren; Cummings, William J.; Gally, Brian; Miles, Mark; Sampsell, Jeffrey B.; Chui, Clarence; Kothari, Manish, Method and device for packaging a substrate.
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Palmateer, Lauren; Cummings, William J.; Gally, Brian; Miles, Mark; Sampsell, Jeffrey B.; Chui, Clarence; Kothari, Manish, Method and device for packaging a substrate.
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Tyger, Karen, Method and device for providing electronic circuitry on a backplate.
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Miles, Mark W.; Sampsell, Jeffrey B., Method and system for packaging a MEMS device.
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Gally, Brian J.; Cummings, William J.; Palmateer, Lauren; Floyd, Philip D.; Chui, Clarence, Method and system for packaging a display.
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Tsai, Hsiung-Kuang, Optical interference display panel.
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Lin, Wen-Jian; Arbuckle, Brian; Gally, Brian; Floyd, Philip; Palmateer, Lauren, Optical interference display panel and manufacturing method thereof.
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Jabbari, Alireza; Stumbo, David P; Sogard, Michael, Practical pseudo-asynchronous filter architecture.
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Tsai,John C., Rotation and translation measurement.
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Taniguchi, Tetsuo; Kamiya, Saburo, Stage device and exposure apparatus.
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Peter M. O'Neill ; Victor Johansen ; Peter Maxwell, System and method for detecting defects within an electrical circuit by analyzing quiescent current.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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