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Detergent, method of cleaning, and apparatus for cleaning 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/08
  • B08B-003/10
  • B08B-003/12
  • C11D-033/95
출원번호 US-0553270 (1996-04-02)
우선권정보 JP-0115072 (1993-05-17)
국제출원번호 PCT/JP94/007 (1994-05-17)
§371/§102 date 19960402 (19960402)
국제공개번호 WO-9426864 (1994-11-24)
발명자 / 주소
  • Shimozawa Hiroshi,JPX
  • Kumagai Masaru,JPX
  • Tsuchitani Fumihiko,JPX
  • Koga Mayumi,JPX
  • Nakamura Tadayuki,JPX
  • Saitoh Nobuhiro,JPX
  • Yamafuji Shigeo,JPX
출원인 / 주소
  • Toshiba Silicone Co., Ltd., JPX
대리인 / 주소
    Foley & Lardner
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 10

초록

The detergent of this invention, directed to the cleaning of an object having a gap portion at least in part thereof, contains at least one of components of the detergent having a solubility parameter difference of not more than 3 from and a contact angle within 15.degree. with at least one of compo

대표청구항

[ We claim:] [1.] A method for cleaning an object that has a smear of a machining oil containing at least one component selected from the group consisting of base oil, oiliness agent, and extreme pressure agent, wherein the object includes a gap portion, the method comprisingcleaning the gap portion

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Inada Minoru (Yokohama JPX) Kabuki Kimiaki (Tokyo JPX) Imajo Yasutaka (Hachioji JPX) Oguni Takayuki (Yokohama JPX) Yagi Noriaki (Yokohama JPX) Saitoh Nobuhiro (Ota JPX) Kurita Akitsugu (Ota JPX) Take, Cleaning compositions.
  2. Inada Minoru (Yokohama JPX) Imajo Yasutaka (Hachioji JPX) Uchino Masahide (Ohizumigakuenmachi JPX), Cleaning method and cleaning apparatus.
  3. Inada Minoru (Yokohama JPX) Imajo Yasutaka (Hachioji JPX) Uchino Masahide (Tokyo JPX), Cleaning method and cleaning apparatus.
  4. Inada Minoru (Yokohama JPX) Kabuki Kimiaki (Hachioji JPX) Imajo Yasutaka (Tokyo JPX) Yagi Noriaki (Yokohama JPX) Saitoh Nobuhiro (Ohta JPX), Cleaning method and cleaning apparatus.
  5. Arena Ronald D. (Durham CT) Lowry Eric G. (Middletown CT), Compositions for eradicating electrophotographic images from translucent paper.
  6. Fujikawa Kazonori (Shiga JPX) Tanaka Masato (Shiga JPX) Muraoka Yusuke (Kyoto JPX), Device for rinsing and drying substrate.
  7. Lutringer Philippe (Am Allee JB Clement Livry ; Gargan FRX), Hydrocarbon solvent composition.
  8. Breunsbach Rex (14732 SE. 117th Ave. Clackamas OR 97015), Method for cleaning electronic assemblies.
  9. Inada Minoru (Yokohama JPX) Kabuki Kimiaki (Tokyo JPX) Imajo Yasutaka (Tokyo JPX) Yagi Noriaki (Yokohama JPX) Saitoh Nobuhiro (Ohta JPX), Method of cleaning an object.
  10. Nafziger Charles P. (2445 E. Encanto Mesa AZ 85213), Single-chamber cleaning, rinsing and drying apparatus and method therefor.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Machac, Jr., James R.; Marquis, Edward T.; Crawford, Wheeler C., Alternative photoresist stripping solutions.
  2. Koshiyama, Jun; Taira, Yasumitsu; Shinohara, Chima, Cleaning liquid for lithography and method of cleaning therewith.
  3. Gatzke, Kenneth G., Engine cleaner composition.
  4. O'Connor, John J., Method and apparatus for treating metal.
  5. Jung, Hyun-Chul; Joung, Jae-Woo, Method for surface treatment of substrate and method for forming fine wiring.
  6. Andreas Michael T. ; Walker Michael A., Surface cleaning apparatus.
  7. Andreas Michael T. ; Walker Michael A., Surface cleaning apparatus and method.
  8. Perry, Robert J.; Hubbard, Patricia A., Vapor phase siloxane dry cleaning process.
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