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Apparatus for transfer of workpieces into and out of a coating chamber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65G-047/80
출원번호 US-0495333 (1995-06-27)
우선권정보 DE-4427984 (1994-08-08)
발명자 / 주소
  • Kempf Stefan,DEX
  • Konig Michael,DEX
출원인 / 주소
  • Balzers Und Leybold Aktiengesellschaft, DEX
대리인 / 주소
    Felfe & Lynch
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 12

초록

A pivot arm (3) is rotatable about an axis for delivering and removing a flat workpiece (24) into and out of the area of the lock (19) of an evacuable coating chamber (26). The pivot arm (3) is provided at its distal end with the retaining bolt (12) which is perpendicular to the plane (20) of the lo

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] Apparatus for transfer of workpieces into and out of a coating chamber, said apparatus comprisingan evacuable coating chamber having a lock opening,a pivot arm rotatable about an axis, said pivot arm having a distal end remote from said axis, said distal end being movable

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Nerger Klaus K. (Witten DEX), Apparatus for balancing of positional tolerances.
  2. Walde Michael (Rodenbach DEX) Zejda Jaroslav (Rodenbach DEX), Apparatus for passing workpieces into and out of a coating chamber through locks.
  3. Erikson Carl A. (Schenectady NY) Anthony Thomas R. (Schenectady NY) Cline Harvey E. (Schenectady NY) Ludke Siegwalt (Scotia NY) Fielding John O. (Ballston Lake NY), Apparatus for practicing temperature gradient zone melting.
  4. Kempf Stefan (Alzenau DEX), Apparatus for synchronizing loading and unloading of substrates with turntable movement in a coating chamber.
  5. Drake Samuel H. (Lexington MA) Simunovic Sergio N. (Newton MA), Compliant assembly system device.
  6. Whitney, Daniel E., Damped remote center compliance device.
  7. Inoyama Tadao (Yokohama JPX) Matsumura Yasuhide (Hachioji JPX) Nagano Yukio (Chiba JPX), Holding apparatus with elastic mechanism.
  8. Rebman Jack (Erie PA), Insertion compliance device.
  9. Asakawa Kazuo (Kawasaki JPX) Akiya Fumiaki (Kawasaki JPX) Tabata Fumio (Yokohama JPX), Supporting device.
  10. Strasser Gregor (Vaduz LIX) Zhrer Gerald (Weite CHX) Schertler Roman (Wolfurt ATX) Fischer Heinrich (Triesen LIX), Transport system for conveying workpiece between first and second media.
  11. Dean Robert E. (High Bridge NJ) Dein Edward A. (Union NJ), Wafer handling apparatus and method.
  12. Kouno Gisuke (Ooita JPX) Ashikari Takuji (Ooita JPX), Wafer holding apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
  2. Olin, Stefan, Machine and method for manufacturing compact discs.
  3. Lee Ke Ling ; Mazur Mikhail ; Lee Ken ; Martinson Robert M., System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system.
  4. Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
  5. Bruce, Robert William; Grossman, Theodore Robert; Evans, Sr., John Douglas; Pilsner, Brian Harvey, Vacuum coater device and mechanism for supporting and manipulating workpieces in same.
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