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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0481801 (1995-06-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 66 인용 특허 : 0 |
Silicon beads are produced by chemical vapor deposition (CVD) on seed particles generated internal to a CVD reactor. The reactor has multiple zones, including an inlet zone where beads are maintained in a submerged spouted bed and an upper zone where beads are maintained in a bubbling fluidized bed.
[ We claim:] [1.] A process for the deposition of silicon on particles that are located inside a vessel, the process comprising:providing a reactor having a vessel, which vessel has a wall which defines a chamber having at least two zones including (a) an inlet zone and (b) an upper zone that commun
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