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Device for masking or covering substrates 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/34
출원번호 US-0834142 (1997-04-14)
발명자 / 주소
  • Kempf Stefan,DEX
출원인 / 주소
  • Singulus Technologies GmbH, DEX
대리인 / 주소
    Pillsbury Madison & Sutro
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 0

초록

A device including a sputtering cathode 2 and masks for masking or covering portions of a surface of a substrates 27, having a center mask guide element 56 on which a center mask 26, which covers the substrate 27, is disposed and works together with an outer mask 4 in such a way that only the uncove

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A device comprising a sputtering cathode (2) and masking means for masking or covering first portions of a surface of a substrate (27) when the substrate is in position to have a second portion of the surface of the substrate coated by material emitted from said sputterin

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Rinaldi, Kenneth James, Apparatus and method for forming reflective layer of optical disc.
  2. Takehara, Shintaro, BCA recording on optical recording medium.
  3. Savage, Paul; Lydon, Dave; Davis, Robert A., Content unlocking.
  4. Mueller, William R.; Pickutoski, Ed, Dual sided optical storage media and method for making same.
  5. Gensel, Lewis; Pickutoski, Ed, High-density optical recording media and method for making same.
  6. Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
  7. Ikeda Jiro,JPX ; Kinokiri Kyoji,JPX, Magnetron sputtering apparatus for single substrate processing.
  8. Takehara, Shintaro, Method for replicating media using unique identifiers.
  9. Mueller, William R., Multi-purpose high-density optical disc.
  10. Mueller, William R., Multi-purpose high-density optical disc.
  11. Khazanov, Alexander Boris; Rou, Shanghsien; Yu, Jie-Ming; McLeod, Paul Stephen; Shows, Mark Anthony; Hwang, Kuo-Hsing; Shih, Chung-Yuang, Sputtering target assembly and method for depositing a thickness gradient layer with narrow transition zone.
  12. Shanghsien Rou ; Alexander Boris Khazanov ; Jie-Ming Yu ; Paul Stephen McLeod ; Mark Anthony Shows ; Kuo-Hsing Hwang ; Chung-Yuang Shih, Sputtering target assembly and method for depositing a thickness gradient layer with narrow transition zone.
  13. Lee Ke Ling ; Mazur Mikhail ; Lee Ken ; Martinson Robert M., System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system.
  14. Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
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