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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0654885 (1996-05-29) |
우선권정보 | JP-0119108 (1996-05-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 38 인용 특허 : 10 |
A photomask substrate, which is formed in a rectangular shape and on the surface of which photoresist is applied, is located above a lower heating plate so as to be separated from the lower heating plate by a proximity distance. The lower heating plate is provided with a heat unifying ring fixedly a
[ What is claimed is:] [1.] An apparatus for processing photoresist applied on a surface of a substrate, comprising:a first heating plate for heating said substrate, said substrate is located on said first heating plate so as to directly contact said first heating plate or to be separated there from
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