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Method for masking a disk shaped substrate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B23P-011/02
출원번호 US-0541594 (1995-10-10)
우선권정보 DE-4307382 (1993-03-09)
발명자 / 주소
  • Zejda Jaroslav,DEX
출원인 / 주소
  • Leybold Aktiengesellschaft, DEX
대리인 / 주소
    Felfe & Lynch
인용정보 피인용 횟수 : 3  인용 특허 : 3

초록

In a mask (7) for covering the outer marginal area of a disk-shaped substrate surface during a coating process, for example a vacuum sputtering or vapor depositing process, the mask (7) is made of an elastic material in the form of a planar plate with an essentially circular opening. To center and l

대표청구항

[ I claim:] [1.] Method for masking a disk-shaped substrate having a thickness and an annular marginal portion defining an outside diameter of said substrate, said method comprisingproviding a flat annular plate of elastic material having an outwardly facing cylindrical wall defining an outside diam

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. Yamamori Eiji (Tokyo JPX), Apparatus for adapting the diameter of a disk-like recording medium.
  2. Kildal Maurice A. (Webster NY) Richardson Frank A. (Charlotte NC) Leather Brendan N. (Fort Mill SC) Monsees Claude E. (Fort Mill SC), Slide frame and manufacturing process.
  3. Dean Robert E. (High Bridge NJ) Fink James L. (Millburn NJ), Wafer holding apparatus and method.

이 특허를 인용한 특허 (3)

  1. Ken Lee ; Ke Ling Lee ; Mingwei Jiang ; Robert M. Martinson, Horizontal sputtering system.
  2. Voser, Stephan; Dubs, Martin, Storage plate support for receiving disk-shaped storage plates.
  3. Ke Ling Lee ; Mikhail Mazur ; Ken Lee ; Robert M. Martinson, System and method for transporting and sputter coating a substrate in a sputter deposition system.
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