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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0793256 (1997-02-21) |
국제출원번호 | PCT/KR94/001 (1994-08-24) |
§371/§102 date | 19970221 (19970221) |
국제공개번호 | WO-9606206 (1996-02-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 2 |
A method for the deposition of a diamond film, which includes the steps of immersing metallic or nonmetallic substrate in and electroless nickel plating bath containing a reducing agent to form a nickel layer; and depositing the diamond film on the electroless nickel plated substrate. As a result, e
[ What is claimed is:] [1.] The method for the deposition of a diamond film, comprising the steps of:immersing a metallic or nonmetallic substrate in an electroless nickel plating bath containing a reducing agent to form a nickel layer on said substrate; anddepositing said diamond film on said elect
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