$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Piezoelectric sensor for hydride gases, and fluid monitoring apparatus comprising same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-031/02
  • G01N-031/22
  • G01N-030/00
출원번호 US-0785342 (1997-01-17)
발명자 / 주소
  • Miller Cynthia A.
  • Tom Glenn M.
출원인 / 주소
  • Advanced Technology Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Hultquist
인용정보 피인용 횟수 : 25  인용 특허 : 0

초록

A sensor element for detection of a trace fluid component in a fluid stream or other fluid environment, comprising a piezoelectric crystal having a fundamental resonant frequency in response to an applied oscillating electric field, and an inert porous material coating on the piezoelectric crystal c

대표청구항

[ What is claimed is:] [1.] A sensor element for detection of a trace fluid component in a fluid environment, comprising:a piezoelectric crystal having a fundamental resonant frequency in response to an applied oscillating electric field; andan inert porous material coating on the piezoelectric crys

이 특허를 인용한 특허 (25)

  1. Holst, Mark; Faller, Rebecca; Tom, Glenn; Arno, Jose; Dubois, Ray, Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions.
  2. Mark Holst ; Rebecca Faller ; Glenn Tom ; Jose Arno ; Ray Dubois, Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions.
  3. Holst, Mark; Dubois, Ray; Arno, Jose; Faller, Rebecca; Tom, Glenn, Abatement of effluents from chemical vapor deposition processes using organometallic source reagents.
  4. Dimeo, Jr., Frank; Chen, Philip S. H.; Neuner, Jeffrey W.; Welch, James; Stawasz, Michele; Baum, Thomas H.; King, Mackenzie E.; Chen, Ing-Shin; Roeder, Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  5. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawacz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  6. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawasz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  7. Chen,Philip S. H.; Chen,Ing Shin; Dimeo, Jr.,Frank; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing target gas species in semiconductor processing systems.
  8. DaCosta,David H.; Golben,P. Mark; Tragna,David C., Fuel gauge for hydrogen storage media.
  9. DaCosta,David H.; Golben,P. Mark; Tragna,David C., Fuel gauge for hydrogen storage media.
  10. Matheron, Muriel; Barattin, Regis; Jousseaume, Vincent; Ricoul, Florence, Gravimetric gas sensor having a lowered detection limit.
  11. Zhang Jingnian ; McMahon Roberta L., Hydride gas detecting tape.
  12. Hayes, Michael W.; Holst, Mark R.; Arno, Jose I.; Tom, Glenn M., Integrated ion implant scrubber system.
  13. Michael W. Hayes ; Mark R. Holst ; Jose I. Arno, Integrated ion implant scrubber system.
  14. Takeuchi, Yukihisa; Ohnishi, Takao; Kimura, Koji, Mass sensor and mass sensing method.
  15. Takeuchi, Yukihisa; Ohnishi, Takao; Kimura, Koji, Mass sensor and mass sensing method.
  16. Takeuchi, Yukihisa; Ohnishi, Takao; Kimura, Koji, Mass sensor and mass sensing method.
  17. Takeuchi,Yukihisa; Ohnishi,Takao; Kimura,Koji, Mass sensor and mass sensing method.
  18. Thanner, Herbert, Method and device for determining the redox state of a reaction surface coated with a catalyst material.
  19. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Chen,Ing Shin; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James, Nickel-coated free-standing silicon carbide structure for sensing fluoro or halogen species in semiconductor processing systems, and processes of making and using same.
  20. Rodahl Michael,SEX ; Hook Fredrik,SEX ; Krozer Anatol,SEX ; Kasemo Bengt,SEX, Piezoelectric crystal microbalance device.
  21. May Iain,GBX ; Tom Glenn M., Piezoelectric gas sensing device for detection of a gas species a gaseous environment.
  22. Galun,Ehud; Zilberman,Galit; Tsionsky,Vladimir; Gileadi,Eliezer, Quartz crystal microbalance humidity sensor.
  23. Tom Glenn M. ; King Mackenzie E., Quartz crystal microbalance sensors and semiconductor manufacturing process systems comprising same.
  24. Tom Glenn M., Quartz crystal microbalance system for detecting concentration of a selected gas component in a multicomponent gas stream.
  25. Manson, Jan-Anders Edvin; Leterrier, Yves; Waller, Judith, Self-monitoring composite vessel for high pressure media.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로