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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0407826 (1995-03-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 56 인용 특허 : 8 |
A control system for a film deposition apparatus having a plurality of processing chambers. The control system includes a plurality of control processors, each of the plurality of processors including a memory, being coupled to a subset of the plurality of chambers and controlling processing in said
[ What is claimed is:] [24.] An apparatus for controlling an in-line sputtering machine having an input end, an output end, a plurality of processing chambers between the input end and the output end, a pumping system, a heating system, a transport system, and a sputtering gas control system, the tr
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