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Apparatus and method for cleaning large glass plates using linear arrays of carbon dioxide (CO.sub.2) jet spray nozzles 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24C-003/00
출원번호 US-0727809 (1996-10-07)
발명자 / 주소
  • Kosic Thomas J.
출원인 / 주소
  • Eco-Snow Systems, Inc.
대리인 / 주소
    Armstrong
인용정보 피인용 횟수 : 26  인용 특허 : 7

초록

In accordance with the teachings of the present invention, an apparatus and method for cleaning large glass plates each having first and second major surfaces is provided. The apparatus (10) includes an enclosure (14) which maintains a cleaning environment in which a glass plate (42) is decontaminat

대표청구항

[ I claim:] [1.] An apparatus for cleaning a glass plate having first and second major surfaces, comprising:an enclosure for maintaining a cleaning environment in which the glass plate is decontaminated;means for vertically supporting the glass plate within the enclosure with the first and second ma

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Carpenter James H. (Hagerstown MD), Abrasive cleaning machine.
  2. Shank ; Jr. James D. (Vestal NY), Blasting cabinet.
  3. Krone-Schmidt Wilfried (Fullerton CA) Di Milia Edward S. (Gardena CA) Slattery Michael J. (Gardena CA), Electrostatic discharge control during jet spray.
  4. Bjornard Erik J. (Northfield MN) Kurman Eric W. (Northfield MN) Shogren David A. (Lakeville MN) Hoffman Jeffrey J. (Inver Grove Heights MN), Method and apparatus for cleaning substrates in preparation for deposition of thin film coatings.
  5. Isaacson Larry Z. (Atlanta GA), Method and apparatus for uniformly texturizing objects using abrasive blasting.
  6. Tsuchiya Takashi (Tokyo JPX) Ishii Osamu (Kanagawa JPX), Powder beam etching machine.
  7. Levi Mark W. (Utica NY), Wafer cleaning method.

이 특허를 인용한 특허 (26)

  1. Furusawa Masami,JPX ; Harano Riichiro,JPX, Apparatus and method for cleaning substrate.
  2. Rajiv S. Agarwala ; Cynthia A. Johnson, Apparatus and method for removing a label from a surface with a chilled medium.
  3. Lewis, Paul E.; Ahmadi, Goodarz; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid; Compton, Keith H., Apparatus for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  4. Seasly, Elaine E.; Seasly, Zachariah A., Automated non-contact cleaning.
  5. Jackson,David P., Carbon dioxide snow apparatus.
  6. Lynn, William R., Containment system or barrier with open/closable doors.
  7. Mangrich, Benjamin; Haberstroh, James A.; Qassab, Ahmad, Fluid jet cutting device.
  8. Millonzi, Richard P.; Foltz, Robert S.; Petralia, Richard C.; Caccamise, Leslie W.; Hammond, Harold F.; Crump, David P.; McCumiskey, Robert E.; Williams, Edward C., Hollow cylindrical imaging member treatment process with solid carbon dioxide pellets.
  9. Banerjee, Souvik; Chung, Harlan Forrest, Liquid-assisted cryogenic cleaning.
  10. Banerjee,Souvik; Chung,Harlan Forrest, Liquid-assisted cryogenic cleaning.
  11. Hoshino, Katsutoshi; Kato, Masahide; Umetsu, Yasuhiro; Imafuku, Kosuke, Method of refurbishing a quartz glass component.
  12. Holden, James Matthew; Suh, Song-Moon; Sudheeran, Shalina D.; Mori, Glen T., Methods and apparatus for cleaning a substrate.
  13. Ahmadi, Goodarz; Lewis, Paul E.; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid; Compton, Keith H., Methods for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  14. Ahmadi, Goodarz; Lewis, Paul E.; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid, Methods for cleaning utilizing multi-stage filtered carbon dioxide.
  15. Boumerzoug,Mohamed; Tannous,Adel George, Methods for residue removal and corrosion prevention in a post-metal etch process.
  16. Boumerzoug, Mohamed; Tannous, Adel George; Makhamreh, Khalid, Methods for resist stripping and cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  17. Boumerzoug,Mohamed; Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  18. Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  19. Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  20. Tannous,Adel George; Makhamreh,Khalid, Methods for resist stripping and other processes for cleaning surfaces substantially free of contaminants.
  21. Xu, Xiaowei; Long, Chunping; Shi, Lei; Xu, Wenqing, Organic light emitting device having protrusion formed of transparent material and display apparatus.
  22. Aoki, Yoshiaki; Tsujita, Keiji; Kuge, Morimasa; Yokoyama, Takaaki; Sakurai, Takashi; Suzuki, Michio; Anada, Masayuki; Shinkai, Masayuki, Plate material vertical processing line.
  23. Philip G. Perry ; Rajiv S. Agarwala ; Jodie L. Morris ; Loren E. Hendrix ; Carmen W. Enos ; Gregory J. Arserio, Process for roughening a surface.
  24. Pei, Shao-Kai, Sandblasting apparatus.
  25. Aoki Hidemitsu,JPX, Substrate cleaning method and apparatus.
  26. Gabzdyl, Jacek Tadeusz; Veldsman, Walter Mark, Weld preparation method.
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